據天下雜誌報導，台積自製的光罩基板（mask blank），造價數百萬，上頭80層多層膜反射層，只要有幾顆奈米級的灰塵，就會對晶片良率造成莫大影響。EUV量產階段的最關鍵技術，就是一片50奈米厚度的光罩護膜（pellicle），用在晶圓生產的光罩上頭，只要一顆灰塵掉落，就足以讓整批晶圓報廢。
ASML研發副總經理嚴濤南表示，後來台積電在光罩盒加上一種特殊的防塵設計，並大膽量產，台積電從此突破瓶頸，大量使用EUV微影技術製程，技術也遠拋其他對手。
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