UVC LED對大腸桿菌、MRSA和多種病原體的殺菌效力已得到充分證明,而波長小於280 nm的UVC LED在消毒和滅菌方面比汞燈來的更有效,但是性能、成本和使用壽命一直是影響UVC LED還沒被市場普及採用的關鍵因素。
https://www.biwennews.com/story.php?post_id=3293
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IR與UV應用論壇 探討趨勢機會與潛力
2016-04-15 15:45:26 經濟日報 曹松清
由SEMI(國際半導體產業協會)與外貿協會共同主辦之2016年「LED Taiwan」(LED製程展)第二天的「IR+UV 技術與應用論壇」首年度舉辦,由AquiSense、CrayoNano、光寶、歐司朗(OSRAM)、青島杰生、方全、RayVio、Yole Développement等產業領導大廠的高階主管,暢談IR與UV的技術趨勢,及其應用市場的機會與潛力。
LED應用多元 業者應以客戶需求為優先
歐司朗光電半導體紅外和激光產品事業部暨亞太區市場部資深經理顧繼東指出,IR(紅外線)LED技術,可應用於工業、車用與消費性等不同領域。近期在美國與台灣相當熱門的VR(虛擬實境),亦是未來十分看好的應用。為因應廣泛的應用,建議業者思考是否能夠提供其技術與經驗,並協助客戶打造所需要的產品,是未來的課題。
光寶科技經理李泓儒表示,全球高亮度LED的市場規模,在2015年可達149億美元,2018年將達到162億美元。而就應用面來看,穿戴式應用的感測市場規模將自2013年的6,700萬美元,成長到2019年的4億6,600萬美元。其中在心率感測與血氧儀等,將扮演高附加價值的重要關鍵。整體來看,生理偵測技術將愈來愈重要。相關業者必須同時投入在輕薄短小、低功耗、生物與醫學方面的產品研發,以滿足客戶的需求。
UV LED成產業聚焦重點 暢談未來發展
CrayNano創辦人暨技術長Helge Wwman則是以DUV(Deep UV;深度紫外線)LED為題,進一步探討UVC(紫外線波長200~275nm)的發展狀況。Helge Wwman不諱言,就目前來看,UVC LED的確有效率過低,造成在散熱表現不盡理想的問題,這為封裝製程上帶來許多挑戰。此外,在基板與材料的使用上,也相當昂貴。但他指出,UVC市場在2016年第三季就會開始出現成長,預估到2019年,UVC LED將佔UV LED市場30%左右的比重,而該年度的營收規模將達1,500萬美元。
方全有限公司副總經理黃子坤則分享如何測量UV LED光源,取得較佳的量測結果。一般來說,LED光源的量測須透過積分球與光譜儀形成量測系統。他建議,於積分球的塗層上採用PTFE(聚四氟乙烯),能有效解決光源的衰減現象。在光譜儀的設計方面,採用陣列式的作法,亦能有效抑制在量測時所面臨的雜訊問題,使量測出來的結果與現實狀況趨於一致。
UV要成長 先從成本結構著手
AquiSense總裁暨執行長長Oliver Lawal談到,UVC其實已經出現在市場上了,而該公司在UVC技術產品能涵蓋的應用像是化學、運輸等各大產業。不過,這個技術並非是製造業者就可以馬上量產的技術,仍然需要不少的奧援,才能讓它開花結果。
RayVio亞太區業事業發展總監周裕翔進一步說明,在空氣與水源中,其實蘊藏許多病菌。在中國大陸有業者以UV殺菌水杯進行群眾募資,最後獲得的金額遠超乎預期。另外,某波音公司計畫設置自動UV殺菌系統,使用者必須在殺菌之後才能使用。上述兩個案例皆顯示UV應用發展具有市場需求,且前景看好。不過,他也認為,若UV LED要進一步發展,仍待考量的因素還有很多,像是功率的提升、價格偏高、如何穩定供應、市場教育,以及標準的一致性等的問題。
DUV應用進入萌芽期 產研界審慎樂觀
針對DUV的觀察,青島杰生電器副總經理武帥指出,美國、中國大陸、南韓與日本已有數家業者投入DUV技術發展。他表示,當波長在接近270奈米時,其消毒效率的表現最為優異,但此標準的DUV LED消毒器材在量產時仍然有成本與技術上的問題尚待克服,不過青島杰生在現階段已推出市面上最接近270奈米的方案。水源消毒,就是該方案能夠發揮的主要應用之一。
Yole Développement LED、OLED及藍寶石市場經理Pars MUKISH認為,UV燈泡與UV LED各有優劣,以使用壽命而言,UVA LED至少能維持1萬個小時以上,最高可達5萬個小時。反之,UV燈泡之平均壽明則為2,000小時,最高僅達1萬個小時。Pars MUKISH針對UVA至UVC的應用市場進行預測:如UVA所發展出的光觸媒空氣清新機(Photocatalytic Air Purification)等,將會一路發展至2019年,UVB的主要應用則是以光照治療為主,至於UVC領域,將於2017年開始發展水源與空氣消毒兩大應用。
附圖:LED Taiwan首次舉辦的「IR+UV 技術與應用論壇」於展期第二天登場,邀請AquiSense、CrayoNano、光寶、歐司朗、青島杰生、方全、RayVio、Yole D_veloppement等產業領導大廠之高階主管,暢談IR與UV的技術趨勢,及其應用市場的機會與潛力。 SEMI/提供
資料來源:http://money.udn.com/…/1631798-IR%E8%88%87UV%E6%87%89%E7%94…
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EUV的成果是2330台積電股價可以攀升的原因之一。為什麼呢?因為臺積電在這個製程領先才能在7奈米、5奈米上領先對手三星、Intel,讓訂單持續湧入。臺積電在防塵技術上的突破,就算是一顆奈米級的灰塵也會因此影響半導體廠的生產良率,而EUV光刻機對於防塵的要求又比過去採用DUV光刻機時更高,因此在三星及Intel都還卡在防塵處理這關時,台 積 電 成功改良了光罩防塵技術,就因此讓TSMC成為全球首間導入EUV技術並且達成量產的廠商,在7奈米的訂單上大幅超越死敵三星。
極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光,lithography最早是石版印刷的意思,現在也被用來稱呼為光刻技術,所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行雕刻”的意思,那要雕什麼呢?要雕晶圓。
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資料參考:
《一文看懂光刻機》
《晶圓代工爭霸戰:半導體知識(前傳) 》
《拿走英特爾的皇冠、超車三星,台積電贏在一顆奈米級灰塵 》
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