關於 euv光罩材質 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 一窺全世界技術最精密的機具

接著將每個光罩放在矽晶圓上方，照射光線（相當於在轉印模版上噴漆）。 ... 曝光機最終需要11個鏡面反射EUV光，聚焦在晶片上，就好比有11個人打乒乓 ...

#12. 半導體製程微縮，AGC如何與Hoya競爭EUV空白光罩製造龍頭？

日前，日本特殊玻璃和陶瓷材料的製造公司艾杰旭(AGC. Inc)宣布，將要大舉擴張生產應用於EUV曝光設備專用的空白光罩，並期待能夠在2025年達到 ...

#13. 光罩檢驗

應用材料公司的Aera4 光罩檢測系統是以193 奈米為主的第四代檢測工具；此工具獨特 ... 由此觀點，廣義之EUV 光罩檢測技術包含其製程中所有會使用到的量測方法，包括基 ...

#14. 光罩

光罩 是在積體電路，如LSI，的製造過程中使用的必要基本設備。它是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為晶圓製造廠大量生產所 ...

#15. 微影製程

5nm波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。 這種多層膜EUV光罩一方面可 ...

#16. 迎戰先進製程EUV強大需求！半導體國家隊家登備好產能

光罩 基材必須是超低熱膨脹係數材料，並且光罩表面平坦度（Ra）必須小於5個奈米（<5nm），由於光罩材料和製作是屬於高難度，所以估計一片量產的EUV光罩至少 ...

#17. Centura®利乐™EUV先進光罩蝕刻系統 - 应用材料|半导体

EUV光罩 與傳統的光罩截然不同,後者是有選擇性地傳輸193纳米波長的光線,將電路圖案投射到晶圓上。當採用13.5 nm波長的極紫外光微影技術時,所有的光罩材料都是不透光的,因此 ...

#18. 光罩材質

光罩材質. 無光罩技術簡介數位曝光、DLT及噴印技術、IJP因應智慧化生活使用 ... 極紫外線EUV 光罩是以新式微影系統，透過高能量、短波長的光源，將電路圖案轉印到晶圓 ...

#19. 微影製程再進化！複雜電路的祕密 - 科技大觀園

這是一個簡單的例子，在真實情況中，光罩上會有密密麻麻極為精細的電路圖案，不會只有一個洞；整個製程因為需要堆疊上各式各樣的材料，所以至少得做六次以上的微影，且每次 ...

#20. 半導體用光阻劑之發展概況

正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離；反之，若光 ... 之數位邏輯晶片；EUV光阻劑主要應用於7奈米以下之先進製程。

#21. 光罩盒 - 家登精密工業股份有限公司

14吋光罩盒(圓角)- 厚度0.12吋. 使用靜電消散材質，避免光罩受到靜電損害，提供14吋光罩在運輸與儲存時的安全防護。 尺寸. 14 x 14 x 0.12 (吋). 材質. ABS(ESD).

#22. 家登精密工業股份有限公司 - MoneyDJ理財網

此外，公司也是全球半導體曝光機龍頭廠艾司摩爾(ASML)的EUV光罩盒供應商，以及曝光機零組件夥伴。 2.營業項目與產品結構. 公司主要產品有光罩傳載類、 ...

#23. 光罩廠商

採光罩材質於半導體前段製程，弘塑提供了光罩清洗，原材料晶圓清洗，與應力緩解 ... 製程微縮帶動EUV光罩需求，連帶引發EUV空白光罩製造商的龍頭之爭.

#24. 台積電、英特爾EUV光罩盒都要靠他家登無塵室曝光 - ETtoday ...

供應全球晶圓大廠光罩盒的家登（3680）近期台南樹谷廠產能建置完成，其廠房和光罩盒無塵室也悄悄曝光，《ETtoday新聞雲》親自走訪這個生產出台積電、 ...

#25. 發展下一世代環保微影光罩結構材料 - 9lib TW

I at wafer E at wafer Glass Chrome Phase Shifter BIM Att-PSM 圖2.15 傳統光罩(BIM)與衰減式相位移光罩(Att-PSM)之比較Quartz MoSiON Cr/CrOx Photoresist Resist ...

#26. 光源 - 政府研究資訊系統GRB

相對於電子書寫技術，EUVL可延續傳統光學微影的方法以光罩曝光進行晶片量產，因此. 2. 極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(III).

#27. 英特格Entegris Extreme 極紫外光（EUV）光罩傳送盒 ...

英特格(Entegris) 的雙吊艙設計提供了內部和外部吊艙，可維持無污染的環境。 EUV pod光罩傳送盒與生產設備的連接比如測量工具，掃描儀和儲料器等是符合SEMI®標準E152。

#28. EUV黃光微影技術介紹 - 銘乾的分享空間

EUV -波長13.5nm的極紫外線光. 由曝光源發出的光，只有經過光罩上線路為透明區域的部分可以繼續通過透鏡，而將設計好的 ...

#29. 北美智權報第93期：相位移光罩技術與半導體微影製程

於是光罩上的圖案便完整的傳遞到晶片的感光材料上，此即為所謂的 ... 極短紫外光(Extreme UV，EUV)、X光(X-Ray)等光源），經由光罩(Mask)對晶 ...

#30. EUV是個什麼酷東西？ — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術

採5 奈米EUV 製程，迎戰台積電」、「台積電掃貨EUV 光刻機，三星為什麼 ... 微影製程(Lithography) 的本質就是讓光穿透光罩，把設計好的圖案映射在晶 ...

#31. ASML接獲設備大單EUV微影商用進展邁大步| 數位感-2022年4月

應用材料(Applied Materials)日前即推出Centura Tetra Z光罩蝕刻系統(圖2)，希望以新一代微影術光罩蝕刻技術，讓多重曝光尺寸縮小至10奈米(nm)以下。

#32. CENTURA®TETRA™EUV先进光罩蚀刻系统|应用材料 - 半导体 ...

euv 光光与传统传统的光罩不错，后者是有所地传输193nm波长的光线，将电视图片投射到上。当当用13.5nm波长的极紫外光微影技术时，没有的光罩材料都是不望光的，因此配料 ...

#33. AGC大幅增產EUV用光罩基板、目標擴產至3倍 - 奇摩股市

旭硝子於2003年就開始從事EUV微影技術用光罩基板的研發，是當前全球唯一一家能一條龍式生產「玻璃材料」到「膜材料」的EUV光罩基板廠商。 根據Yahoo ...

#34. 应用材料通过新的光罩蚀刻系统清除EUV光刻的关键障碍应用材料- 必 ...

在euvl使用的13.5nm波长下，所有光罩材料都是不透明的，因此，掩模包含复杂的多层反射镜，将电路图案反射到晶片上。TETRA EUV系统设计用于蚀刻新材料和复杂的层叠，以 ...

#35. 紫外線曝光機

然而euv光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路碘鎵 ...

#36. EUV 極紫外光！一個你應該知道與台積電相關的技術

新聞常在報的五奈米、三奈米先進製程、EUV微影技術等等， ... 紫外光經過光罩後，利用各種光學原理將光束射在晶圓上，就可以在上面刻出精細的電路圖了 ...

#37. euv光罩材質、euv原理、euv是什麼在PTT/mobile01評價與討論

在euv光罩材質這個討論中，有超過5篇Ptt貼文，作者SophiaH也提到我兩頰的斑塊愈來愈明顯, 電腦螢幕輻射似乎也是長斑的因素想自製擋輻射的面罩, 請問用什麼材料較能有效 ...

#38. 華 - 中華大學

X-ray 微影(X-ray lithography, XRL)光罩在製作過程與微影. 程序中會產生變形,所產生的變形可分 ... 改變也將影響光罩的翹曲與平面變形,薄膜的材料、厚度、以及製程.

#39. euv光罩

半導體製程微縮拉抬EUV設備需求，AGC宣布擴張生產EUV空白光罩，然面對Hoya在表面 ... 目前的尖端技術可做出寬度小於10奈米的電路，EUV曝光用光罩材料是在平板玻璃上 ...

#40. 極紫外光微影 | 蘋果健康咬一口

中，使用反射式透鏡及聚光多層膜反射鏡將光罩上的圖案縮小4倍反射曝光在 . ... 當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術(EUV Lithography) 時，所有的光罩材料都是不透光 ...

#41. 陸半導體材料聚焦18家指標廠- 產業．科技 - 中國時報

半導體製造材料主要有七大項，分別是矽晶圓、光阻劑與相關材料、光罩、電子氣體、CMP、濕式化學品與靶材，以2019年全球半導體材料市場來看，矽晶圓占 ...

#42. 家登精密工業股份有限公司

與台積電合作成功研發12吋晶圓廠用光罩傳送盒（Reticle SMIF Pod）並 ... (EUV)光罩價錢極其昂貴，如何完全確保極紫外光微影(EUV)光罩的使用.

#43. 光罩製作流程

接着，再以化学药剂将被破坏的材料洗去。 蚀刻技术：将没有受光阻保护的硅晶圆，以离子束蚀刻。 光罩版. ... 近年來，極紫外光(Extreme ultraviolet, EUV) ...

#44. 研究計畫 - 台大電機系

極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(2/3) 98-2120-M-009-007 ... 次32奈米半間距微影製程考慮多重曝光之光罩設計自動化研究

#45. 光罩盒6025(ESD) - 中勤實業股份有限公司

光罩 盒/ 光罩出貨盒/ 光罩儲存盒/ 6025 Mask Package Box ESD * ... 採ESD靜電消散材質，避免光罩受到靜電損害，接觸面積小，光罩盒容易堆疊，提供6吋光罩在運輸與儲存 ...

#46. 台積電砸重金研發3、2奈米力戰摩爾定律 - 工商時報

台積電亦藉由2奈米光罩材料與光罩製程的基礎開發，持續精進EUV光罩技術，2奈米預期2025年開始生產。 在先進封裝技術方面，台積電3DFabric平台設計解決 ...

#47. 微影製程英文第一章 - Ustmy

EUV 光源波長比目前DUV（深紫外線微影）的光源波長短，約為15分之1，因此能使用於線距更小光罩上的電路圖案的曝光上。 然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm ...

#48. CTimes - KLA-Tencor新版黃光電腦模擬軟體進一步克服EUV微影

此新版本將協助晶片製造商及研發機構的研究人員能以具成本效益的方式，探索與超紫外光（EUV）微影相關的各種光罩設計、黃光製程材料及製程的可行性。

#49. EUV光刻的“致命弱点” | 雷峰网

EUV光 刻用于晶圆厂的芯片生产，它使用一个巨大的扫描仪在高级节点上对芯片的微小特征进行图案化，在操作中，EUV的扫描仪产生光子，最终与晶圆上的光敏材料 ...

#50. Entegris EUV 1010光罩盒展現卓越的缺陷率性能並獲得ASML ...

Entegris EUV 1010光罩盒展現卓越的缺陷率性能並獲得ASML認證】 隨著半導體產業開始大量使用EUV微影技術進行先進技術節點的大量製造(HVM)，保持EUV光罩無缺陷的要求比 ...

#51. 產品應用- 裕群光電科技股份有限公司－全方位光學設計與設備 ...

EUV 172nm電漿光洗淨石英基板、曝邊機鏡片、UV曝光機鏡組、UV Curing非球面反光罩、UV Curing用隔熱UV Pass濾光片、UV Pass吸熱鏡片、NdYAG雷射刻號機顯微物鏡組、面板 ...

#52. 光罩設計– Ziyou8

【歷史上的今天】搭上EUV熱潮的家登EUV光罩盒很了不起嗎？ ... 裝修使用的採光罩材質，以不鏽鋼或鍛造的材質選則是最佳的方案，我們也長期接受配合大小型建設公司以及 ...

#53. 光罩盒

英特格的EUV 1010 光罩盒因此讓客戶順利使用最先進的微影製程，製造產品所需越來越小的線寬。 光罩,光罩基板,石英基板,拋光研磨,光罩盒,瑋懋科技材料股份有限公司Coretec ...

#54. 半導體製程技術 - 聯合大學

光阻. ▫ 感光材料. ▫ 暫時塗佈在晶圓上. ▫ 將設計的圖案經由曝光轉印到晶圓表面 ... 交連聚合體有較高的化學蝕刻阻抗力. ▫ 未曝光的部分在顯影劑中將被溶解. 光罩.

#55. 家登7奈米極紫外光光罩傳送盒通過ASML機台測試- 自由財經

目前通過測試最新版本的EUV POD比照ASML微粒防護的最新標準，與光罩接觸點皆為耐磨材質，能有效減少Particle，提供EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效 ...

#56. ASML接獲設備大單EUV微影商用進展邁大步

應用材料(Applied Materials)日前即推出Centura Tetra Z光罩蝕刻系統(圖2)，希望以新一代微影術光罩蝕刻技術，讓多重曝光尺寸縮小至10奈米(nm)以下。

#57. 極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件 ...

極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(2/3). Huang, Yuan-Dong (PI). 電子工程學系 · 概覽. 專案詳細資料. 狀態, 已完成.

#58. Centura®Tetra™EUV先進光罩蝕刻系統_applied materials - 金沙 ...

當用13.5nm波的極紫外光显微摄影技术術（euv lithography）時，所有的光罩材料都是不透光的，因此，该工具结合多个高频反射罩的光罩可电路方案反射到晶体上。多个薄膜euv光 ...

#59. 國立高雄大學應用化學系碩士班碩士論文

第三位：EUV 光阻研發的關鍵性僅次於EUV 光源的開發與光罩的. 製造。2 ... nm 的波長光源時，BARC 材質的抗反射作用與其他物質包括矽空片.

#60. 微影製程ptt 微影制程簡介_圖文_百度文庫 - Dycvi

圖光罩圖形圖實體圖形原理微影的基本原理是先在晶片表面塗上一層感光材料微 ... 極紫外光（EUV）微影技術是近年不斷提到的微影製程名稱，也是現今能在晶片上畫出最精密 ...

#61. euv 光罩傳送盒英特格 - QBXFP

英特格Entegris Extreme 極紫外光（EUV）光罩傳送盒Ultraviolet … ... 光罩尺寸： 6 x 6 x 0.25 (吋) § 材質： peek(esd) ，雖然是小螺絲，提升全球競… 日商搶進 EUV ...

#62. 极紫外光刻

然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。

#63. 導入乾式EUV光罩潔淨技術台積電兩年節能20億元 - 半導體設備

台積電在最新一期社會責任電子報發布最新極紫外光（EUV）技術。台積電首創「乾式EUV光罩潔淨技術」，可減省735公噸高純水，減省36公噸化學品，同時 ...

#64. 製程材料跳脫摩爾另闢蹊徑AI掀晶片設計/製造變革 - 新通訊

若為了維持光源強度而將功率提高至250w以上，則會有燃燒的風險，且光罩防塵薄膜在高功率的EUV光源下可能會產生微粒，造成光罩汙染。為解決此問題，廠商也 ...

#65. 光罩盒

【歷史上的今天】搭上EUV熱潮的家登EUV光罩盒很了不起嗎？ – … 光罩光罩基板,石英基板,拋光研磨,光罩盒,瑋懋科技材料股份有限公司Coretec Materials Company Co,, Ltd, ...

#66. 光罩盒Nikon光罩盒 - Zzkvs

RSP200光罩盒/RSP200-EUV光罩盒光罩載具晶圓載具記憶體晶片載具Pellicle 薄膜載具零件耗材開發設備類Purge System 轉平邊機Wafer Notch 智能推車Pellicle 鼓膜量測機載 ...

#67. 2007年教育部影像顯示科技人才培育計畫 - 黎明技術學院電機 ...

Micro-lithography. 光罩. 顯影. 蝕刻. 去光阻. Positive type photoresist ... •EUV(13.5nm or 11.4nm) ... 利用電漿將反應氣體分子解離成對薄膜材質.

#68. 光罩盒材質 :: 百貨業者資訊

百貨業者資訊，光罩盒用途,光罩盒廠商,光罩盒是什麼,極紫外光光罩盒,euv光罩盒塑料,家登光罩盒,光罩盒供應商,euv光罩盒概念股.

#69. 產業價值鏈資訊平台> 近期活動與訊息

金雞報喜，針對半導體7奈米高階製程，家登布局EUV POD極紫外光光罩傳送盒多年， ... 為耐磨材質，能有效減少Particle，提供EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效能防護。

#70. 半導體材料之二~掩膜版,光罩- 人人焦點

... 或PHOTOMASK，材質：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子製造 ... 第五代EUV光刻機，採用極紫外光，可將最小工藝節點推進至7nm。

#71. 半導體光罩是什麼 - Lubos

(4)IC封測IC製造廠商完成的IC大致如下圖： 晶圓完成品。 mask(光罩)介紹.ppt; CTIMES; [新聞] 《半導體》光罩擴展新業務營運添薪; EUV黃光微 ...

#72. 電晶體與晶圓製程 - 股狗網投資網誌

EUV 微影與傳統的光罩全然不同，所有光罩材料皆為不透光，使用通稱極紫外線之極短波（13.5 nm）光線的微影技術，透過高能量、波長短的光源將電路圖案 ...

#73. 極紫外光微影技術極紫外光微影製程 - Azyvp

當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術(EUV Lithography) 時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。

#74. 光罩護膜 - 中文维基百科

在目前逐步踏入EUV的世代，因為其波長僅有13.5nm，以往所使用的「光罩護膜」將會吸收此光源的波長，然而據報導指出ASML是唯一成功開發出商用的「EUV ...

#75. 光罩盒及其固持件

在半導體製程的產業中，涉及黃光微影等蝕刻技術所使用的光罩，會依照製程使用的基板尺寸而有不同， ... 更進一步來說，本實施例中支持本體100所選用的塑膠材質為聚醚醚 ...

#76. 光罩护膜 - 万维百科

光罩 护膜（Pellicle），即表示是光罩上的膜或薄膜的意思，结构为一薄膜展开 ... 所以KrF (248nm)、ArF (193nm) 的保护膜则使用非结晶之氟聚合物材质（如.

#77. 三星與英特爾EUV光罩盒采購需求爆發，廠商接 - Gxear

麻薩諸塞州比爾里卡–(BUSINESS WIRE)–(美國商業資訊)–為半導體和其他高科技產業提供先進材料和製程解決方案的世界級供應商Entegris，外盒雙層結構的光罩保護設計。該EUV ...

#78. KLA-Tencor 新版黃光電腦模擬軟體PROLITHTM 12 進一步克服 ...

此新版本將協助業界頂尖晶片製造商及研發機構的研究人員能以具成本效益的方式，探索與超紫外光 (EUV) 微影相關的各種光罩設計、黃光製程材料及製程的 ...

#79. 台積電資本支出維持高檔16檔概念股營運吞大補丸 - 鉅亨

家登(3680-TW) 今年出售廠房給台積電，其主要的晶圓載具產品出貨同步擴增，營收優於預期，此外，EUV Pod (光罩盒) 更是台積電獨家供應商，明年出貨續 ...

#80. 極紫外光微影製程— Google 藝術與文化

然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。這種 ...

#81. 微影技術持續精進半導體工業延續飛躍性成長 - 電子時報

此外，電子束曝光技術相較深紫外光微影術使用的相位轉移光罩(phase ... 但一般光罩並無法有效地讓X光穿透，X光使用的光罩為由特殊材質作為光罩基板與 ...

#82. 極紫外光微影技術 - Rixwo

由於半導體廠接單中只要多1層EUV光罩層需求，就要 ... 7/7/2015 · EUV光線的能量、破壞性極高，製程的所有零件、材料，樣樣挑戰人類工藝的極限。

#83. 2338光罩臺積電臺灣光罩股份有限公司 - PPJNK

代碼，不清楚代表什麼意思，英特爾等大廠都必須要用到的關鍵材料廠房。(家登,光罩盒,EUV,臺積電,英特爾) 北商大商研所B2B 工業行銷與業務、客戶關係專題 ...

#84. 光罩廠商 - Korbball deitingen

光罩 基板是半導體、LCD顯示器、PCB印刷電路板、LED等產頁光罩製造的主要材料。. 所有曝光線路都需經由光罩基板的複製而整合細微的元件。. 本公司多年來以 ...

#85. 極紫外光波長 - Hugb

1）EUV 微影技術的實用化，必須研發光源、光學系統、光罩、光阻、曝光裝置等各項要件技術，而激發具有極短波長13.5 nm 之強力EUV 光線的技術則是最大的課題。

#86. 微影技術持續精進半導體工業延續飛躍性成長 - 壹讀

此外，電子束曝光技術相較深紫外光微影術使用的相位轉移光罩(phase ... 地讓X光穿透，X光使用的光罩為由特殊材質作為光罩基板與重金屬作為X光吸收劑， ...

#87. 45 奈米晶圓對資料庫光罩檢測的視場結果

TeraScanHR 是新的光罩檢測平台，比先前的TeraScanTR ... 野替換的PSM 和EUV 光罩。測試展現絕佳的進階產品 ... 例如微粒）或EPSM 材質上的殘餘鉻有更高的靈敏.

#88. 光罩製程英文

光罩 /倍縮光罩(Mask) 曝光Exposure 顯影Development 紫外光負光阻基片正光阻基片 ... 相器的佈局圖和光罩光罩和倍縮光罩圖片提供: SGS Thompson 晶圓製程材料設計光罩.

#89. [問卦] 有沒有EUV 極紫外光微影製程的八卦？ - PTT Web

然而EUV 光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術時， 所有的光罩材料都是不透光的， 因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將光罩 ...

#90. duv euv 波長

然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同，當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。

#91. 微影製程英文 - Qtbon

2 3 積體電路製程流程材料設計光罩積體電路生產廠房測試封裝最後測試加熱製程微影 ... 14/7/2017 · 「我們相信EUV是在未來實現成本可負擔之微影製程微縮、非常具成本 ...

#92. euv微影技術

極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(III) Investigations on Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) from Beamline ...

#93. 微影製程極紫外光微影製程 - Zilhc

EUV 曝光機的波長更短，進而可以利用單次曝光實現更小的元件圖案間距，因此，對於目前採用多層圖案化技術的製程，晶圓廠可以改為採用單層圖案化並減少製程步驟，光罩數量和 ...

#94. 微影蝕刻原理 - Vnfp

當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術(EUV Lithography) 時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。

#95. nikon 曝光機

適用於Nikon曝光機之6吋光罩載具，外盒採用低釋氣材質，支點採用耐磨、靜電消散且 ... 設備封鎖，中國將與日本廠商Nikon及Canon聯手研發除EUV之外的半導體曝光設備。2.

#96. 與「亞塑企業有限公司」相似的公司 - 104人力銀行

2018年EUV光罩相關檢測設備研發出貨並將光罩清洗應用切入玻璃面板產業。 ... 產品的穩定，更重視日新月異的技術創新與服務，提供客戶更優質的機構設計、材質改良、韌體 ...