關於 plasma氣體選擇 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 第一通用科技有限公司-- 相關訊息 - iHomeDIY

從上述看來，依據選擇氣體種纇及電漿參數，就擁有可以分開使用化學反應及物理反應的 ... 所以根據光譜算之O2 Plasma發光正常為白色微黃，N2 Plasma附下圖發光為暗 ...

#12. 電漿蝕刻在VLSI製程之應用(一)

單的氯化、氟化物發展為多氣體混合化學系 ... (Inductively Coupled Plasma,ICP)電漿。其設 ... 介電材之蝕刻選擇性高,因此其蝕刻氣體及系. 統設計與第一類製程不同。

#13. 電漿表面改質技術 - 科普寫作網路平台

這時就要設法改變材料的特性，而電漿（plasma）處理就是一種常用的方法，它經常被 ... 電漿是當氣體處於高溫或強電磁場下，部分的氣體原子或分子解離形成的物質狀態， ...

#14. 半導體＆ ETCH 知識，你能答對幾個？ - 吳俊逸的數位歷程檔

答：利用plasma將不要的薄膜去除. 何謂Under-etching(蝕刻不足)? ... 何種氣體為oxide vai/contact ETCH主要使用氣體? ... 何謂etch 選擇比?

#15. 学术干货丨Plasma etching 处理材料的原理及应用

Plasma 就是等离子（在台湾称为电浆），是由气体电离后产生的正负带电离子 ... 湿法刻蚀是使用特定的溶液与需要被刻蚀的薄膜材料进行化学反应，选择性 ...

#16. 電漿蝕刻SiC 材料與微型模具製作之研究 - CHUR

本實驗是採用RF電漿蝕刻機台並使用CF4和O2反應氣體對SiC材. 料進行蝕刻，並探討氣體O2/CF4流量比 ... Plasma assisted chemical etching is considered to be the most.

#17. plasma氣體選擇、大氣電漿原理 - 素食蔬食資訊集合站

在plasma氣體選擇這個討論中，有超過5篇Ptt貼文，作者maroonn也提到本[問題]文章為家電商品討論，非挑選文、求推薦文，是否明白？ 是冷暖氣相關文章請使用[冷氣]選項， ...

#18. 介電質常壓電漿產生器之開發及其於質譜分析之應用

離子數大約相同的氣體」，而「Plasma」一詞源自希臘文，原意指「被. 塑成的物體」，Plasma 在生理 ... 大氣壓光游離法時分析物可被選擇性游離，並避免氣體與溶劑的干擾.

#19. TWI450308B - Plasma processing method - Google Patents

又，表1條件的氧氣氣體控制在1ml/min以上10ml/min以下選擇比更大。 又，本實施例為適用微波ECR電漿蝕刻裝置的例子 ...

#20. 電漿是什麼

前言電漿（Plasma）：在工程應用上我們不可能取出「一個」氣體離子與電子來 ... IAE) 蝕刻速率高且是可受控制的蝕刻輪廓是非等向性且可控制的蝕刻選擇性佳並且是可控制 ...

#21. 200A 氧氣長壽命切割機 - 台灣電漿公司

自動氣體調整：在選擇需要的切割電流後，電漿切割機將會自動設定建議的切割氣體參數。操作人員在選擇需要的切割電流、確認 ... 具備電漿墨線(Plasma Marking)功能。

#22. 大氣電漿電漿表面處處理工藝藝 - 淞耀

mal Plasma）. 獲得能量。由. 低之操作壓力 ... 大氣電漿，. 術上的表面處. 含：化學藥. 高成本，與生. 需真空或濕. 之氣體 ... 中最佳選擇. 了：表面改質.

#23. 離子與電漿(Ion and plasma)

在原子(Atom)的結構中，除了帶負電的電子(Electron)是比較有用的東西，帶正電的離子(Ion)也是工程上常常使用的，而一團氣體離子與電子就稱為「電漿(Plasma)」， ...

#24. 什麼是電漿 - Iaf25

電漿是一種完全游離或部分游離的氣體，是物質的第四態。 ... 是完全無閃頻，在高速攝影的光效需求下，HIVE Light的PLASMA電漿燈就是您最好的選擇。

#25. 微波電漿應用於分解半導體製程尾氣之研究

關鍵詞：溫室效應、微波電漿反應器、四氟化碳、添加氣體. 一、 前言 ... 漿(plasma) 。 ... 微波電漿反應器對半導體製程中所用的CF4 氣體的分解去除效率，本實驗選擇全.

#26. 批次式/電漿清洗機 - 暉盛科技股份有限公司

暉盛批次式電漿清洗機採用專利高密度電漿技術，可達到高產能的目標。此外，暉盛科技的電漿清洗機，更具備多樣氣體選擇、各式基板適用性、低氣體用量等特點。

#27. 生醫電漿系統(Bio-Plasma System) - 電漿與薄膜科技中心

大氣電漿(Atmospheric Pressure Plasma Jet)，構造為兩個銅環電極，石英管作為介電質材料以防止電弧產生(Arc)，並且使用惰性的氦氣(He)與氬氣(Ar)氣體 ...

#28. Plasma Treatment System (AP-1000 ... - 技鼎股份有限公司

可處理之產品如BGA, 導線架, 覆晶基板,發光二極體光電材料, 醫療材料..等, 均已獲國際大廠驗證並用於量產. ○依不同製程應用可選擇不同之氣體如: 氬氣,氧氣,氫氣,氮氣, ...

#29. Praxair 6600XL｜英耐德實業有限公司INNOVATOR SURFACE ...

6600XL電漿控制系統可以相容於目前常見的電漿火焰噴槍，例如SG-100、F4、9MB等噴槍。 · 使用氬氣、氮氣作為一次氣體，氮氣、氦氣和氫氣作為二次氣體，也可以選擇使用氬氣或 ...

#30. 電漿產生器 - Freshandclean

低溫等離子(電漿) 大氣壓低溫等離子(電漿)體是指一種部分離子化的氣體──氣體中帶電 ... 在飛比有多樣式與各型號Plasma Usb商品優惠選擇滿足您的需求與選擇，也提供 ...

#31. 蝕刻技術

是0.40μm/min, 氧化膜對矽的蝕刻選擇比為25比1, 如果. 三分鐘後停止蝕刻, 試問會有多少 ... 乾式蝕刻法是利用氣體分子或其 ... etching during plasma etch process.

#32. 電漿林芳葦嘉義市興華中學高二5

電漿，中國稱作等離子(體)，香港稱為等離子（英文：Plasma），是一種電離的. 氣體，由於存在電離出來的自由電子和帶電離子，電漿具有很高的電導率，與電.

#33. 電漿熱流分析研究 - 行政院原子能委員會

Study of thermal analysis for plasma ... 極大的製程優點；高溫下容易破壞元件而限制基板的選擇範圍，除 ... (plasma)或離子氣體(ionized gas)。基本上電漿是由 ...

#34. Practice Course in Plasma

Institute of Space and Plasma Sciences, National Cheng Kung University ... Space Plasma Operation Chamber (SPOC) ... 幫浦抽氣之氣體選擇性.

#35. Thin-Film Deposition Principles & Practice

(2)空氣中的氣體原子或分子介入薄膜中，破壞薄膜的純度。 (3)空氣中的活性原子或分子與薄膜 ... 概略了解，才能選擇適當之真空系統組合，以得到所需之特. 定壓力值。

#36. 學術乾貨丨Plasma etching 處理材料的原理及應用

而幹法刻蝕一般指等離子表面刻蝕(plasma surface etching)，材料表面通過反應氣體電離成等離子等自由基團與材料發生反應從而進行選擇性地刻蝕，被刻蝕的 ...

#37. 熱電漿之應用與診斷

（The Applications and diagnosis of thermal plasma ）. 核能研究所 ... 普通氣體分子間並不存在淨電磁力，而電離氣體中的帶電粒子間存在著庫倫力，由此.

#38. 4、干法蝕刻(dry etch)原理介紹 - 人人焦點

老司機帶你利用高中化學知識理解蝕刻(dry etch)選擇比(selectivity)原理 ... 而干蝕刻主要用plasma離化反應氣體(RIE: Reactived Ionized Etch)，與被 ...

#39. PVA TePla IoN 10V / 40 / 100 電漿清洗系統亞太國際電子器材 ...

製程參數控制‧ 自行診斷功能和圖形‧ Ethernet 乙太網通信‧ 節能控制功能‧ 備用氣體選擇‧ 安裝容易，即插即用. PVA TePla IoN 100 是專為滿足廣大客戶不斷變化的需求而 ...

#40. 等離子清洗機氣體使用舉例說明 - 每日頭條

氮氣（N2）是提高材料表面侵潤性的不二選擇。 現在等離子清洗機通常為2路氣體，有時候我們會嘗試讓氣體去組合比例配合清洗，來達到不一樣的效果。

#41. (12)發明說明書公告本

apparatus includes a chamber body, a planar plasma-generating electrode, a sample suspension ... 於一般將處理基板整片涵浸(immerse)在氣體電漿之中,而可選擇.

#42. 真空plasma处理机选用气体为氧、氢、氮时的注意事项_CRF

采用真空plasma处理机表面处理技术进行处理的材料很多，它们都有不同的处理要求和用途，这时我们选择的工艺气体也会不一样，在plasma处理机表面处理中 ...

#43. 半導體製程技術 - 聯合大學

選擇 性蝕刻是將光阻上的IC設計圖案轉移到晶圓表面 ... 氧電漿灰化製程(Oxygen plasma ashing): 去除有機殘餘物 ... 副產品是氣體、液體或是可溶解於蝕刻劑的固體.

#44. 電漿科學與平面顯示器

(Alternate current plasma display panels, ACPDP)，並由三 ... 外，為避免氣體放電時，介電層受離子轟擊而耗損， ... 且選擇氖氣為主要氣體成分的原因。

#45. 微小化氬氣電漿放射光譜應用於氣相層析偵測器之開發

... 激發背景氣體氬氣產生電漿，配合光譜儀分析氬氣電漿的放射光譜，透過波長選擇、 ... Chromatographic Detector Employing Argon μ–plasma Emission spectrometry ...

#46. Plasma 電漿球

中央金屬球接上電源後，內部氣體因為高壓而產生電漿，發出數條不斷扭動的光線。. 電漿球( 靜電球)Plasma Ball是一個抽真空的玻璃球，內部含有低壓的 ...

#47. 2009 - 馗鼎奈米科技股份有限公司-Si-Plasma部落格

反應器圖二、RF 耦合感應裝置反應器的設計主要符合放電的形式，內部材料的選擇應考慮加熱溫度、耐腐蝕、表面光滑平整不易包覆氣體等。

#48. 台灣積體電路製造股份有限公司15 廠含氟及N2O 溫室氣體破壞 ...

台積電15 廠薄膜(CVD)製程Chamber clean 已是最佳技術: remote plasma (NF3)；. 蝕刻(ETC)製程因FC 類氣體使用於製程，會因製程特性及選擇性使用 ...

#49. 304不袗網之微電離氣銲接技術研究.pdf

電離氣( plasma)爲指氣體與電子接觸後所產生的一束原質離子的現象,一如當天空 ... 將三種不同網目規格的不銹鋼,依據Secheron Microplasma 使用說明,選擇適當.

#50. plasma等离子清洗机用什么气体？氧气、氩气、氢气、氮气该 ...

利用等离子清洗的机理，选择充入的气体可以分成反应性气体和非反应性气体分别对应化学反应和物理反应。 反应性气体经过电离后产生等离子体，利用体内自由基与表面污物 ...

#51. 蝕刻製程在不同晶圓載台轉速下之電漿流動的數值模擬

密度分佈趨勢不同，其與氣體離子化程度，及入口流量影響壓力場等. 因素有關。 ... Keywords：Numerical simulation, plasma, wafer holder rotational speed ...

#52. 等离子体- 维基百科，自由的百科全书

等离子体（又稱电浆），是物質狀態之一，是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。等離子體和氣體一樣，形狀和體積不固定，會依着容器而改變。 ... 中文對「plasma」一詞的翻譯有二：取其最早的含義（整體保持電中性的電離 ...

#53. 蝕刻選擇比 - Zap3003

蝕刻(Etching) 表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻選擇性蝕刻 ... 蝕刻速率通常可藉由氣體種類、流量、電漿源及偏壓功率所控制，在其他因素尚可接受 ...

#54. 大氣電漿微米級圖案化技術 - 元智大學

電漿(Plasma) 為一部份離子化之氣體，其組成包括帶電荷之電子、離子及不帶電氣體 ... 低溫微米級大氣噴射電漿選擇性表面改質技術亦可提供生醫材料表面微陣列親疏水特性 ...

#55. Airiti Library華藝線上圖書館_氣體電漿誘導表面改質及殺菌處理

氣體 電漿 ； 表面改質 ； 高分子基材 ； 殺菌處理 ； gas plasma ... 漿於熱敏感性物質殺菌上的適用性，顯現電漿有效的提供一可替換傳統高溫殺菌法的選擇，在性質上以 ...

#56. 以非熱電漿結合觸媒去除溫室效應氣體C3F8之探討

Title: 以非熱電漿結合觸媒去除溫室效應氣體C3F8之探討;C3F8 abatement via plasma catalysis. Authors: 林昇宏;Shenghung Lin.

#57. 介電層蝕刻則可形成保護導電部分的絕緣結構。蝕刻製程還能 ...

電漿產生Plasma Applicator: 射頻或微波能量注入共振腔解離如CF4 /非氟系(石英)或氟系(藍寶石)等惰性氣體產生電漿。 提供各種電漿Applicator.

#58. 4、干法蚀刻（dry etch）原理介绍 - 360Doc

物理蚀刻主要是用plasma轰击wafer表面，粒子与粒子之间发生碰撞，达到蚀刻 ... 各向异性的效果，通过调节化学蚀刻气体比例可以实现不同flim的选择比。

#59. 利用新型電漿進行材料表面微米級圖案化之研究研究成果報告 ...

surface using micro-atmospheric pressure plasma processing. Micro-atmospheric pressure plasma ... 於此計劃中，本研究探討了經選擇性大氣噴射電漿表面改.

#60. 大氣電漿之模擬技術 - 機械工業網

Abstract: Plasma techniques are wildly used in semiconductor industry. ... 電漿為物質的第四態，與氣體一樣是一個由許多粒子所組成的統計熱力學系統；電漿與氣體 ...

#61. 等離子體(plasma)又叫做電漿 - 華人百科

電漿. 外文名稱. plasma cvd equipment. 類目. 物理學. 基本性質. 電離氣體 ... 現在等離子平面螢幕技術為最新技術，而且它是高質圖象和大純平螢幕的最佳選擇。

#62. 電漿 - 中文百科全書

等離子體(plasma)又叫做電漿，是由部分電子被剝奪後的原子及原子團被電離後產生的正 ... 首次將“電漿”（plasma）一詞引入物理學，用來描述氣體放電管里的物質形態[1]。

#63. 蝕刻技術(Etching Technology)www.tool-tool.com

4-6 電漿蝕刻(Plasma Etching). 利用電漿將蝕刻氣體解離產生帶電離子、分子、電子以及反應性很強(即高活性)的原子團（中性基Radical），此原子團與 ...

#64. O-ring（Pororoca）｜AIR WATER MACH 株式會社

半導體用途密封材選擇指南 ... Plasma Etching設備. Plasma Ashing設備. 251B 252W. 耐熱性優越。 耐Plasma特性優越。 ... 釋出氣體少。 E）電極／配線.

#65. 電漿產生器

由於採用獨特電漿激發機制，不論製程所使用的是哪種氣體，COPRA 電漿源在 ... 在飛比有多樣式與各型號Plasma Usb商品優惠選擇滿足您的需求與選擇，也 ...

#66. 應對能源危機，他們造了一個「太陽」 - 端傳媒

核聚變已成為解決全球能源問題的主要選擇之一，它比目前核電站普遍使用的 ... 首次將Plasma 一詞引入物理學，用來描述氣體放電管裏的物質形態，Plasma ...

#67. 【面板制程刻蚀篇】史上最全Dry Etch 分类、工艺基本原理及良 ...

如下图所示，纯粹的化学蚀刻通常没有方向选择性，上下左右刻蚀速度相同， ... 等离子刻蚀简称PE(Plasma Etching)模式，PE与RIE模式的差别在于将RF射频 ...

#68. 嘉南藥理科技大學專題研究計畫成果報告

本研究針對甲烷氣體在高週波(RF)電漿系統 ... 因此本研究選擇了甲烷，研討此物在電漿的. 分解反應。 ... a Silent Discharge Reactor”,Plasma Chemistry.

#69. 愛迪亞業界先驅 - Yahoo奇摩新聞

隨著製程技術的提升，特殊氣體的種類愈來愈多，ICS所推出GASSMITH系列的乾 ... 製程所產生之有毒氣體，有別於結合燃燒使用的電漿式（Plasma）設備，可 ...

#70. 電漿概念 - 名師課輔網

最早在1920年代，Langmuir等人首先研究電漿中的現象，而在1929年Langmuir使用了「電漿（plasma）」來敘述此一離子化氣體的現象。

#71. 電漿﹕消毒殺菌的生力軍 - 泛科學

這種方法是採用與傳統方式相似的﹐利用兩片平行金屬板作為氣體放電的平面電極結構。 ... New Journal of Physics: Plasma interaction with microbes.

#72. 具有高深寬比特徵之蝕刻方法

表面並部份露出該矽基材;並且同時將六氟化硫SF6氣體及八氟環丁烷C4F8 氣體提供至一腔體 ... 本方法可形成奈米尺度的深溝槽,且對光阻層有高蝕刻選擇比。

#73. 電漿清洗

此外，暉盛科技的電漿清洗機，更具備多樣氣體選擇、各式基板適用性、低 ... 電漿清洗機中文名稱電漿清洗機英文名稱O 2 Plasma Cleaner 功能說明利用 ...

#74. Chap9 蝕刻(Etching)

A plasma is a collection of free charged particles moving in random ... 利用電漿，將反應氣體的分子，解離成對薄膜材質具反應 ... 遇選擇性較差的情形。

#75. 行政院國家科學委員會專題研究計畫期末報告

英文摘要： The plasma surface activated bonding (SAB) technique ... 氫氣或兩者與惰性氣體之混合氣體，氧離子 ... 與污染物種類，選擇適當之電漿活化氣體。

#76. 超臨界技術

為什麼選擇二氧化碳應用? 基本上，多種氣體包括水均可做為超臨界流體介質但其中就屬CO2最為常用。主要是由於CO2在接近常溫及常態大氣壓力的條件下，輕易即可達到超臨界 ...

#77. GDT/氣體等離子防止器的搜尋結果- 貿澤臺灣 - Mouser

Circuit Protection Gas Discharge Tubes GDTs Gas Plasma Arrestors 氣體放電管- GDT/氣體 ... 電路保護 氣體放電管- GDT/氣體等離子防止器 ... 選擇, 圖像, 零件編號.

#78. ICP-MS儀器研習小組 - 心得報告

For ICP-MS，Meinhard Concentric Nebuliser 一般的氣體流速為0.75-1.00 L ... b 影響霧化效率 → 氣體流量過大會降低plasma溫度 → Intensity 下降.

#79. CF4 + O2 和C6F12O + O2 等离子体在反应离子蚀刻应用中的 ...

结果表明，所研究的气体系统显示出处理条件对电子和离子相关等离子体参数以及F ... 出相同的Si 和SiO 2蚀刻速率行为以及非常相似的SiO2 /Si 蚀刻选择性。

#80. SCICO PLASMA CLEANER 基本升級款氧電漿清洗機/等離子 ...

升級款擁有比基本款更高的功率，適用於小樣品奈米級表面清潔與改質，當樣品不大又需有更好的清潔效果，升級款就是最佳的選擇。

#81. SH-2000型等離子處理機 - 旭鴻新技有限公司

“PLASMA”是一種含有大量電荷的氣體。在正常氣體中， ... 處理是PE，PP，PET，尼龍，乙烯基，聚苯乙烯，聚碳酸酯，PVC和所有其他類型的熱成型和熱固性塑料的理想選擇。

#82. 軟性電子製程設備技術專輯

大氣電漿Atmospheric pressure plasma ．高壓電源High voltage power supply ．換流器 ... 清潔最佳之選擇。 ... 電漿，除了其電極結構、放電氣體外，電源的穩.

#83. 電漿清洗 - Nelli arpogaus

此外，暉盛科技的電漿清洗機，更具備多樣氣體選擇、各式基板適用性、低氣體 ... 改質儀器廠牌HARRICK PLASMA 型號PDC-001 儀器規格Chamber :6” *6.5 ...

#84. 電漿蝕刻

電漿製程反應器內中性氣體濃度分佈之電腦模擬分析: 8. ii 研究電漿蝕刻技術製作奈米級光阻線Utilization of plasma etching technique for studing the fabrication of ...

#85. 雙束電漿離子束(Plasma FIB) - iST宜特

iST宜特建置業界最新型Thermo Fisher Scientific Helios 5 Plasma FIB (簡稱PFIB)，蝕刻速率較傳統Dual-Beam FIB 可提升20倍以上，配置高解析度 ...

#86. 電漿清潔

中空陰極高周波電漿一種利用電漿其化學作用的洗淨方式，可選擇性地有效 ... 表面電漿（Plasma）：在工程應用上我們不可能取出「一個」氣體離子與電子 ...

#87. ICP/OES 原理概論

電漿發射光譜儀(inductively couple plasma optical emission ... (4) 可供選擇的波長多。 ... 場加速，同時和氣體分子、原子等碰撞，使更多的氣體電離，電子和離.

#88. 新式微波電漿反應器之設計及其應用於揮發有機物處理效率之研究

ABSTRACT A novel microwave plasma system was implemented and ... 物質的破壞效率，使用乙醇與丙酮當作模式氣體，空氣、水氣、氧氣當作攜流氣體， ...

#89. 氮氣電漿顏色 - 軟體兄弟

現電漿顏色有誤，通常代表氣體種類有問題。 圖3-15 本實驗室之電漿 ... ,Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PE-CVD )，以氮電漿(N2 RF-plasma) .

#90. 等离子体处理的基础知识——什么是等离子体？ - Tantec

通过选择气体混合物、压力、功率等，可以指定或者精确调整任何表面的等离子体处理效果。 ... 如果您想详细了解等离子体蚀刻（plasma etch），建议阅读我们的相关文章。

#91. ivanian_physics - 電漿燈｜電磁學｜物理電漿燈是80年代由 ...

當通電時，電漿( plasma )... ... 當把手指指向玻璃時，因為人體比惰性 氣體 更導電，電漿體便會 選擇 射向手指。 這個物理玩具的原理看似很危險⚠️，但其實安全。

#92. arcing 原理– arcing 現象

2 3 Plasma Characteristics • 電漿是具有等量的正電荷和負電荷的離子氣體• 電漿是由中性原子或分子、負電（電子）和正 ... 要選擇直流耐壓測試，還是交流耐壓測試？

#93. 電漿清潔原理

Plasma Properties Plasma Properties 特性特性Gas ConcentrationGas Concentration借电浆中的离子或高活性原子，将表面污染物撞离或形成挥发性气体， 再 ...

#94. 「電漿」原是「電離體」

「電漿」的洋名是plasma (源自希臘文πλάσμα)。Plasma ... 但這裡講的plasma 則是物理名詞， ... 先用來形容放電管裡的某種電離氣體的狀態，迄今剛好有80. 年的歷史。

#95. PRODUCTS/ 產品資訊/System 100 -等離子刻蝕與沉積設備

採用真空腔體進樣可進行快速的晶片更換、採用多種製程氣體並擴大了容許的溫度範圍。 ... 選的6 或12路氣箱為製程流程和製程氣體提供了選擇上的靈活性，並可以放置在遠 ...

#96. 電漿清洗 - Kunst art rheintal

此外，暉盛科技的電漿清洗機，更具備多樣氣體選擇、各式基板適用性、低氣體用量等 ... 電漿清洗機中文名稱電漿清洗機英文名稱O 2 Plasma Cleaner 功能說明利用電漿原理 ...

#97. 新世代記憶體的蝕刻挑戰與解決方案 - 電子工程專輯

Lam Research與UCLA合作研究了不同化學性質的氫(H2)，氫是一種具有吸引力的氣體，因為Ge、Sb和Te會形成揮發性氫化物，但發現它會選擇性地蝕刻Sb和Te， ...

#98. plasma - 電漿 - 國家教育研究院雙語詞彙

Langmuir將此一低壓放電所形成之電離氣體(ionized gas)稱之為電漿。目前""電漿""已被廣泛地定義為""由負電離子或電子、正電離子、及中性粒子（原子或分子）所組成之準 ...

#99. 半導體製程設備技術 - 第 203 頁 - Google 圖書結果

... 選擇適當的蝕刻氣體搭配被蝕刻基材,即是我們所常見的各類乾式蝕刻設備。固態液態氣態電漿 Energy (電能)反應前產物反應後副產物 Plasma 圖4.2 乾式電漿蝕刻腔體 ...