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xps分析方法 在 XPSpeak41分峰教學 的推薦與評價
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#1. 基礎理論丨一文了解XPS（概念、定性定量分析、分析方法等）
實用XPS定量分析方法可以概括為標樣法、元素靈敏度因子法和一級原理模型。目前XPS定量分析多採用元素靈敏度因子法，該方法利用特定元素譜線強度作參考 ...
#2. 表面及材料分析方法和應用
XPS 是一種照射X射線以分析由光電效應產生的光電子能量的技術。其. 特徵在於其分析表面組成和化學鍵合狀態的能力。它的分析區域最多. 限制在幾微米(µm) ...
特征信息，在XPS形成特征峰，以此指认元素及. 其价态，分析物质结构等信息。 G分析方法. ❖对于未知样，依照下列步骤：. G扫描全谱；. G识别谱峰（非导体材料，应进行 ...
#4. XPS 、AES、UPS、EDS 四大能譜分析介紹，材料人必看！！！
X射線光電子能譜(XPS )就是用X射線照射樣品表面，使其原子或分子的電子受激而發射出來，測量這些光電子的能量分佈，從而獲得所需的資訊。 通過對樣品進行 ...
#5. XPS和AES的同属表面分析方法有什么不同 - 嘉峪检测网
材料的表面分析技术主要有3种：俄歇电子能谱分析（AES）、X射线光电子能谱分析(XPS) 、原子力显微镜（AFM），今天主要对比学习前两种。，XPS和AES的 ...
#6. 基础理论丨一文了解XPS（概念、定性定量分析 - 知乎专栏
基础理论丨一文了解XPS（概念、定性定量分析、分析方法、谱线结构） ... XPS可以定性分析：1) 样品表面元素组成；2) 样品表面元素的化学态和分子结构 ...
XPS 是一種表面化學分析技術，可以用來分析金屬材料在特定狀態下或在一些加工處理後的表面化學。這些加工處理方法包括空氣或超高真空中的壓裂、切割、刮削，用於清除某 ...
#8. 儀器說｜XPS乾貨：原理、儀器結構和使用方法、實驗和應用例項
其分析原理是先把表面一定厚度的元素濺射掉，然後再用XPS分析剝離後的新鮮表面的元素含量，從而獲得元素沿樣品深度方向的分佈。XPS的Ar離子濺射深度分析， ...
#9. 為何電子能譜屬於表面分析方法？你想知道的XPS和AES都在這裡
材料的表面分析技術主要有3種：俄歇電子能譜分析（AES）、X射線光電子能譜分析(XPS) 、原子力顯微鏡（AFM），今天主要對比學習前兩種。
#10. 【科研】三步搞懂XPS之(一)原理及譜圖
XPS 定量分析方法與原理. A. 基本原理：經X射線輻照後，從樣品表面出射的光電子的強度（I，指特徵峯的峯面積）與樣品中該原子的濃度（n）有線性關係， ...
#11. XPS 超薄薄膜分析 - 台灣儀器科技研究中心
本文介紹X 光光電子儀在超薄薄膜. 界面分析與厚度測量的原理及應用方法，包括了XPS 的基本表面分析原理、角度解析光電. 子分析技術，及薄膜厚度的分析。 The rapid scale- ...
#12. XPS光譜學| X射線光電子能譜| XPS-ESCA
XPS 光譜學（XPS-ESCA）服務的表面分析技術確定了定量的原子組成，化學成分。
#13. xps分析基本原理- 分析行业新闻 - 分析测试百科网
首先给大家分享下我们的更新计划：今天是第一期，主要解决的是XPS的一些最基本的原理以及常规知识；从下一期开始我们主要采用实例的方法进行分享， ...
#14. 乾貨：XPS的測試與數據分析 - 今天頭條
XPS 是一種對固體表面進行定性、定量分析和結構鑑定的實用性很強的表面分析方法。 現今世界上關於XPS的刊物主要有： Journal of Electron Spectroscopy ...
#15. 國立交通大學應用化學所
的有機分子單層膜的特性，以XPS 能譜鑑定矽基材與有機分子薄膜. 的元素組成，確定製備的薄膜品質。 ... Torr 左右，此時將可進行XPS、NEXAFS 與其他UHV 表面分析方法的.
#16. 表面分析技术基础(2)
需强调的是：XPS并不是一种很好. 的定量分析方法。由于各种定量. 计算方法的局限，它给出的常常. 是一种半定量的分析结果，所表.
#17. XPS分析方法与原理 - 百度文库
XPS分析方法 与原理- X—射线光电子能谱( X-ray Photoelectron Spectroscopy ) 主要内容： ? XPS 的发展? 基本概念? XPS 的工作流程及...
#18. 【资料分享】史上最全XPS干货合集，轻松搞定XPS分析与应用！
【干货】以碳材料为例，详解XPS光谱伴峰分析技术. 【干货】深入解析XPS的表面分析和深度分析. 【干货】X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS).
#19. 你想知道的XPS的那点事 - 材料牛
... 简称XPS)，又称化学分析用电子谱(ESCA)，是一种常规的表面表征手段， ... 了全部元素的灵敏度因子，同时也包含可常规的背底扣除方法，如shirley ...
#20. 从理论到实际——XPS的定义、应用范围、原理及方法介绍
一般以Al、Mg 作为X 射线的激发源，俗称靶材。 XPS 可用于定性分析以及半定量分析,一般从XPS 图谱的峰位和峰形获得样品表面元素成分、化学态 ...
#21. XPS测试如何做出深度分析？ - 科学指南针
X射线光电子能谱(XPS)作为一种材料的表面分析技术，经历了50年的发展， ... 最基础的研究工具，XPS的很多基础理论知识，数据分析方法，以及新兴的原 ...
#22. x射線光電子能譜 - 中文百科知識
X射線光電子能譜技術（XPS）是電子材料與元器件顯微分析中的一種先進分析技術， ... XPS特點. XPS作為一種現代分析方法，具有如下特點：. （1）可以分析除H和He以外的 ...
#23. xps测试图谱分析软件,[转载]XPS数据分析方法及分峰软件
XPS 谱图中化学位移的分析一般规律为：1、原子失去价电子或因与电负性高的原子成键而显正电时，内层电子结合能升高。2、原子获得电子而荷负电时，...
#24. XPS——一切從原理開始 - GetIt01
為獲得較好的信噪比，可用計算機收集數據並進行多次掃描。 6. XPS定量分析方法與原理. A. 基本原理：經X射線輻照後，從樣品表面出射的光電子的強度 ...
#25. 整合性表面分析技術–針對複雜表面的物化特性分析方法
本文將從以下大綱提供表面物理與化學特性的分析方法，由多種分析技術與多面向探討，可針對較複雜的改質 ... XPS)，是目前本團隊最常使用的研究方法。
#26. 表面分析神器丨XPS基本原理、仪器结构和使用方法、实验技术
XPS 可以分析导体、半导体甚至绝缘体表面的价态，这也是XPS的一大特色，是区别于其它表面分析方法的主要特点。此外，配合离子束剥离技术和变角XPS ...
#27. 閱讀文章- 精華區NTUCH-HW - 批踢踢實業坊
◎本次考試的重點： （1）學習如何以電子能譜的方法，分析材料表面的性質。主要有兩種方式：X光電子能譜（XPS，X-ray photoelectron spectroscopy）與歐傑電子能譜（AES， ...
#28. x射線光電子能譜 - 中文百科全書
XPS 作為一種現代分析方法，具有如下特點：. （1）可以分析除H和He以外的所有元素，對所有元素的靈敏度具有相同的數量級。 （2 ...
#29. 【免費】2019年最新最全XPS乾貨/分析/教程/軟體包下載 - sa123
此方法的更高階應用可產生關於表面的化學、組成和形態的更詳細的資訊。因而XPS被認為是一種可利用的最強力的分析工具。科學指南針旨在為大家提供輕鬆科研的環境，收集 ...
#30. XPS原理_制样_应用和分析-材料研发及测试权威专家
XPS 是一种对固体表面进行定性、定量分析和结构鉴定的实用性很强的表面分析方法。 现今世界上关于XPS的刊物主要有： Journal of Electron Spectroscopy.
#31. X射线光电子能谱（XPS） - 测试狗
如果辅以离子刻蚀手段，再利用XPS作为分析方法，则可以实现对样品的深度分析。 一、电子能谱法的特点. 1、可以分析除H 和He 以外的所有元素；可以直接测定 ...
#32. X射线光电子能谱分析（XPS） - 美信检测
X射线光电子能谱技术是一种表面分析方法，广泛应用于金属、无机材料、催化剂、聚合物、涂层材料矿石等各种材料的研究，以及腐蚀、摩擦、润滑、粘接、催化、包覆、氧化 ...
#33. 【直播通知】7月4日XPS秘笈分享连载(一)微区分析之精确导航
X射线光电子能谱(XPS)作为重要的表面分析方法，可以对样品表面的元素组分和化学态进行定性和定量分析，已经广泛应用于科学研究和工业生产中。
#34. 第7章、定量分析方法
结构和组成难于长期稳定和重复使用，故一般实. 验研究均不采用。 ▻ 目前XPS定量分析常采用元素灵敏度因子法。该. 方法利用特定元素谱线强度作参考 ...
#35. xps测试图谱分析软件,[转载]XPS数据分析方法及分峰软件
XPS 谱图中化学位移的分析一般规律为：1、原子失去价电子或因与电负性高的原子成键 ... xps测试图谱分析软件,[转载]XPS数据分析方法及分峰软件_weixin_39602108的博客- ...
#36. XPS定性与定量分析概述
XPS 定性与定量分析概述 ... X-射线光电子能谱（XPS），在表面分析中，ULVAC-PHI作为表面分析的领导者，可为用户 ... 然后选择相应的背底扣除方法，如Shirley，以O元素.
#37. 表面分析(XPS和AES)引论
XPS 、XPS 深度剖析、场发射AES/SAM 等功能的分析技术,以及在冶金、腐蚀、 ... XPS 用的是谱学家或化学家的标识方法,而俄歇电子能谱用X射线标识方法来.
#38. 有機物分析小教室，簡單判斷儀器使用時機！ - MA-tek
想要分析有機物，但是分析方法、儀器有好多種，該怎麼選擇呢？ ... X光光電子能譜儀（X-ray photoelectron spectroscopy, XPS）.
#39. 如何選擇適當表面分析儀器，抓出製程汙染缺陷 - iST宜特
宜特在驗證分析領域二十多年的耕耘中，最常遇到的客戶問題就是，「現在面臨的失效現象，要用什麼工具SEM, XPS,AES,SIMS,AFM,FTIR找到汙染缺陷點?!」
#40. XPS分析方法- 材料综合- 小木虫论坛-学术科研互动平台
[求助] XPS分析方法 · 1、有一个课件中写到：找到Kinetic Energy，其下面一个数据为动能起始值，即谱图左侧第一个数据。用公式BE始=1486.6-KE始- 换算成结合能起始值， ...
#41. X射线光电子能谱仪(XPS) - 863检测
X射线光电子能谱技术（X-ray photoelectron spectroscopy，简称XPS）是一种表面分析方法， 使用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来，被光子激发 ...
#42. xps怎么分析含量_xps处理数据元素含量 - 小包百科网
xps 怎么分析含量最新消息，还有xps处理数据元素含量，xps分析元素含量的办法，xps分析原子含量怎么 ... 而定量分析多采用元素灵敏度因子法,该方法利。
#43. xps 測試
過渡元素XPS分析II–數據處理XPS analysis for transition- metal elements (II): Data processing 吳正龍北京師范大學分析測試中心XPS分析方法通則及XPS 標準術語的 ...
#44. xps分析
X射線光電子能譜分析方法及原理(XPS) _表面. X光電子能譜法是一種表面分析方法，Mg作為X射線的激發源，強度等信息對材料表面進行定性，xps數據分析，氧化物，不會破壞 ...
#45. xps能谱 - 豆丁社区
XPS 引言K.Siegbahn给这种谱仪取名为化学分析电子能谱(Electron Spectroscopy ... 实际的X射线光电子谱分析中，不仅用XPS测定轨道电子结合能，还经常用量子化学方法进行 ...
#46. XPS-X射线光电子能谱基础知识讲解 - 辰麦检测
在实际分析中，采用与标准样品相比较的方法来对元素进行定量分析，其分析 ... XPS的主要特点是它能在不太高的真空度下进行表面分析研究，这是其它方法 ...
#47. xps分析c/s
一般定量分析方法一般實用XPS定量方法可以概括為標樣法，元素靈敏度因子法和第一性原理方法。 標樣法需制備一定數量與被測樣品相近的標準樣品作為參考，同時進行比較測量。
#48. X射線光電子能譜學 - Wikiwand
這些加工處理方法包括空氣或超高真空中的壓裂、切割、刮削，用於清除某些表面污染的離子 ... XPS也被稱作ESCA，這是化學分析用電子能譜學（Electron Spectroscopy for ...
#49. 从原理到实例教你玩转XPS | 自由微信
通过收集在入射X光作用下，从材料表面激发的电子能量、角度、强度等信息对材料表面进行定性、定量和结构鉴定的表面分析方法。一般以Al、Mg作为X射线的 ...
#50. 使用参考材料通过SIMS 和XPS 深度分析对Si 1-x Ge x 合金薄膜 ...
摘要比较了多元素合金薄膜的定量分析方法。Si 1-x Ge x 合金膜的原子分数是通过深度剖面分析用二次离子质谱法（SIMS）和X射线光电子能谱法（XPS）测量的。
#51. 如何分析xps的数据 - 小马百科网
B.XPS定性分析元素的化学态与分子结构基本原理: 原子因所处化学环境不同,其内壳层XPS定性分析的具体方法A. 化合物中元素种类的分析——全谱分析对于一个 ...
#52. xps分析原理
XPS /ESCA原理就是藉由光電效應，當X光照射至樣品內部時，原子內層的電子將被激發產生 ... X射線光電子能譜分析方法及原理(XPS) 2019-08-05 09:40 來源:騰達檢測-TDT ...
#53. 《表面化学分析X射线光电子能谱仪能量标校准》解读 - Thermo ...
X射线光电子能谱（XPS）为常用的表面分析 ... 准，规范XPS仪器的能量标校准，使得日常XPS测 ... CuLVV[Ag3d]，Cu2p3/2），经过此方法检验校正.
#54. II 射线光电子能谱(XPS)
一XPS的物理基础. 1. X 射线与物质的相互作用. 为领会表面分析方法XPS(ESCA) 对光电效应和光电发射的了解是必要的当一. 个光子冲击到一原子上时将会发生下列三个事件之 ...
#55. X射线光电子能谱、XPS谱图分析 - 失效分析-成分分析
通过收集在入射X光作用下，从材料表面激发的电子能量、角度、强度等信息对材料表面进行定性、定量和结构鉴定的表面分析方法。 一、XPS用来做什么：.
#56. xps分析方法XPS能譜分析方法及原理_PPT課件
XPS 原理數據分析方法講解_圖文_百度文庫 ... XPS檢測樣品制樣分析方法二維碼一，可以根據能譜圖中出現的特征譜線的位置鑒定除H， and XPS Vocabulary . 5. xps定性分析 ...
#57. X射線光電子能譜闡發（XPS測試） | 尋夢科技 - 尋夢園
X射線光電子能譜分析（XPS測試）應用範圍Thermo ESCALAB 250Xi X射線光電子 ... XPS並行成像是選擇最好橫向分辨率的方法，ESCALAB250Xi提供的成像空間 ...
#58. XPS一切从原理出发 - 中山普川检测技术有限公司
普川检测XPS一切从原理开始1 XPS是什么? 它是定性分析手段还是定量分析手段? XPS,全称为X-ray Photoelectron Spectroscopy (X射线光电子能谱), ...
#59. 材料检测分析方法汇总
体相元素成分分析是指体相元素组成及其杂质成分的分析，其方法包括 ... x射线光电子能谱XPS（ X-ray Photoelectron Spectroscopy）；（10纳米，表面）.
#60. 简单实用丨浅谈XPS的测试与数据分析-材料人论坛
XPS 是一种对固体表面进行定性、定量分析和结构鉴定的实用性很强的表面分析方法。 现今世界上关于XPS的刊物主要有： Journal of Electron Spectroscopy.
#61. 中国科学院化学研究所分析测试中心
本方法需考虑中间氧化物层对氧化硅层厚度测量的影响。 通过用XPS法测量氧化硅和元素硅的Si2p峰面积来计算 ...
#62. XPS中的俄歇峰
被光子激發出來的電子成為光電子，通過能量分析器進行收集分析，基於這種思路和方法構成的儀器，叫做X 射線光電子能譜儀（X-ray photoelectron spectroscopy - XPS）。
#63. xps分析方法基礎理論丨一文了解XPS（概念、定性定量分析
基礎理論丨一文了解XPS（概念，定性定量分析，分析方法等） XPS的分析方法1. XPS定性分析元素組成的範圍？為什麼？ XPS常用Al Kα或者Mg Kα X射線為激發源，能檢測周期 ...
#64. xps怎麼分析
一般定量分析方法一般實用XPS定量方法可以概括為標樣法，元素靈敏度因子法和第一性原理方法。 標樣法需制備一定數量與被測樣品相近的標準樣品作為參考，同時進行比較測量。
#65. 为何电子能谱属于表面分析方法？ - 网易
材料的表面分析技术主要有3种：俄歇电子能谱分析（AES）、X射线光电子能谱分析(XPS) 、原子力显微镜（AFM），今天主要对比学习前两种。
#66. XPS知识深度解析
该方法首先是在六十年代由瑞典科学家K.Siebabn 教授发展起来的。这种能谱最初是被用来进行化学元素的定性分析，现在已发展为表面元素定性、半定量分析及 ...
#67. X射线光电子能谱仪分析硫化铜的表面结构与组成实验
3)了解XPS的定量分析方法以及元素化学价态测定的方法。 4)掌握XPS对薄膜样品的表面刻蚀分析技术。 2．实验仪器及主要性能参数. PHI QUANTERA II SXM;.
#68. xps元素分析测定方法 - 小健知识网
xps 元素分析最新消息，还有xps元素分析测定方法，xrf 全元素分析，eds分析与xps分析的区别等内容，随着应用范围的扩增,XPS的表征基本属于文章的基本 ...
#69. xps 分析原理X射線光電子能譜分析方法及原理(XPS) | WJKLV
X射線光電子能譜分析方法及原理(XPS) _表面. X光電子能譜分析的基本原理：一定能量的X光照射到樣品表面，和待測物質發生作用，可以使待測物質原子中的電子脫離原子成為 ...
#70. xps分析原理XPS——一切從原理開始 - Xvleq
B ． XPS 定性分析元素的化學態與分子結構基本原理： 原子因所處化學環境不同，其內殼層電子結合能會發生變化，這種 ... X射線光電子能譜分析方法及原理(XPS) _表面
#71. xps分析c/s
PDF 檔案圖一般XPS分析中光電子激發和光電子采集示意圖了解各部件的位置， ... では任意のガス雰囲気中で900 Cまでの試料処理ができ，定量和結構鑒定的表面分析方法。
#72. xps 分析XPS分析_知網百科 - Prdceg
XPS分析方法 通則和XPS標準.PDF，但是C 1s譜圖隨分析位置而變化，定性定量分析，化學鍵合等有效信息。 Si 2p的譜圖不隨分析位置而改變， 早期也被稱為ESCA (Electron ...
#73. XPS原始數據處理 - iFuun
導讀本文主要介紹了關於高分辨譜的數據處理與分析。1. XPS高分辨譜可以拿到 ... 如果本身含碳，也可以採用噴金的方法，以Au4f7/2(84.0 eV)作為基準來進行荷電校正。
#74. X射線光電子能譜分析（XPS） - Pripdw
X射線光電子能譜分析（XPS） · X射線光電子能譜（XPS）專題——什么是XPS？ · xps圖具體分析方法_百度知道 · X線光電子分光分析裝置（XPS，ESCA）｜物理分析 · 科研XPS數據分析作 ...
#75. XPSpeak41分峰教學
#76. xps 分析原理xps分析基本原理 - Lnzikz
6. xps定量分析方法與原理a. 基本原理：經x射線輻照后， 可以得到元素及其化學狀態的深度分布。 四，指特征峰的峰面積）與樣品中該原子的濃度（n）有線性關系，用途， ...
#77. xps定性分析
xps 定性分析. 把爱带回家 > xps定性分析 > 列表 ... 培训资料xps定性分析和图谱解析-新版.ppt ... 基础理论丨一文了解xps(概念,定性定量分析,分析方法.
#78. XPS原理及使用分析 - Dnfiyv
XPS XPS分析方法定量分析一級原理模型Fadley就多晶固體光電發射提出如下強度計算公式：其中dIK為來自dxdydz體積元為檢測器所測得的K層的光電子譜線強度。f為X射線強度為 ...
#79. xps 表面分析原理 - Ryder
X射線光電子能譜分析方法及原理(XPS) _表面, www.sohu.com. xps結合能對照表_【科研技能】XPS數據處理, blog.csdn.net. XPS最精煉的總結丨5分鐘全面了解XPS原理、制 ...
#80. 反渗透/纳滤膜剖检分析与膜污染诊断研究进展- 北极星水处理网
膜剖检分析是研究和确定膜污染最直观有效的方法，通过膜剖检分析及膜污. ... XPS是常用于表征膜表面元素组成和化学结构的分析手段，但XPS只能检测膜 ...
#81. 第一原理計算入門 XPS（解析） - 簡単無料ホームページ
第一原理計算コードのセットアップから使用方法、結果の解釈の方法までを解説した ... は、それらに似た解析のパラメータに近づくことになるので分析し易くなります。
#82. 化工学报
首先简要描述了原油作业过程，并对其优化问题的难点进行分析；其次，分别从优化模型、优化算法以及不确定性优化方法三个研究角度，重点阐述了原油采购优化、原油储运 ...
#83. X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS).ppt 20页 - 原创力文档
XPS 是一种对固体表面进行定性、定量分析和结构鉴定的实用性很强的表面分析方法。 现今世界上关于XPS的刊物主要有： Journal of Electron Spectroscopy ...
#84. 新型炭材料
此外，相比于恒压氧化工艺，循环伏安氧化方法可以有效提升炭电极的氧化深度和总氧 ... Raman spectroscopy (Raman) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
#85. 过渡金属二硫属化物单层的反应等离子体清洗 - 全网搜
在上述方法中，金属有机化学气相沉积(MOCVD)在晶粒尺寸、厚度控制和薄膜 ... 通过XPS表面分析比较三种聚甲基丙烯酸甲酯去除策略，证实了H2等离子体 ...
#86. 离开北上广的健身教练_详细解读_最新资讯 - 36氪
焦点分析丨手机销量放缓，但小米还有其他的赚钱方法. 打开. 8点1氪｜腾讯回应旗下App暂停更新；长 ... □2018年8月，成都，向屿在EXOS-XPS培训现场。
#87. 物理所在水系电解液研究中取得进展 - 中国科学院
在CO2-SIW电解液中，全电池循环前和循环后的Nyquist图和XPS光谱结果 ... 在不同气体氛围下的WIS电解液中所形成的固态电解质界面SEI膜的成分分析。
#88. 建筑物中的保温绝缘2021 年至2027 年的市场竞争洞察 - e时代 ...
这两种方法都旨在合作有关市场动态、历史事件和当前市场格局的准确和细致的数据。此外，该报告还包括一项SWOT 分析，总结了影响整个市场细分市场的 ...
#89. 基于氢气/氢供体的分级生物油加氢脱氧制烃类化合物的研究
2.3.6 氢气程序升温脱附分析（H2-TPR）, 第35页. 2.3.7 傅立叶变换红外光谱分析（FT-IR）, 第35页. 2.3.8 X射线光电子能谱分析（XPS）, 第35-36页. 2.4 催化剂评价方法 ...
#90. 蔚来2022届校园招聘补招专场
开展电解液相关应用问题的失效机理分析；5. 撰写产品研发报告、产品的相关技术文件和专利任职要求：1. 熟悉电化学、XRD、SEM、TEM、XPS、原位测试等 ...
#91. 多聚赖氨酸化载玻片的应用介绍（poly-L-lysine-Prep Slides防 ...
研究载玻片的修饰方法,增强细胞在基质上的黏附,在实际疾病诊断中可以提高 ... 利用X射线光电子能谱仪（XPS）和原子力显微镜（AFM）对修饰后的载玻片 ...
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Find X2 Pro游戏的性能值得评价吗？ 评估三星Galaxy Z Flip · OPPO找X2和骁龙865怎么样？OPPO寻找X2分析 · 如何评价 ...
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1.5 シランカップリング剤の効果的な使用量と使用方法 2. シランカップリング剤の反応、 ... （c）表面分析（XPS、原子間力顕微（AFM）） II. 応用編
#94. ROOZYM如骏绝地COSMO6智能运动手表京东平台发售
在此期间，研发团队积累下了丰富的智能穿戴类技术专利，其中就包括了“运动效率分析方法、装置、可穿戴和计算机可读存储介质”、“获取运动心率恢复率的 ...
#95. 孟颖&陈政团队《Science》：全固态电池再获突破！
( B) x 射线衍射谱(XRD) ，以及（C to E ) x 射线光电子能谱(XPS) 研究 ... 等方法，对波浪或水流及其联合作用下圆管的涡激振动时程数据进行分析计算，.
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FSR技术利用先进的边缘重建算法来分析源图像的特征，并通过锐化处理、增强纹理细节来进一步提高画面质量。相比于常见的基础放大方法，FSR可提供具有超 ...
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xps分析方法 在 閱讀文章- 精華區NTUCH-HW - 批踢踢實業坊 的推薦與評價
By B98203058 丁柏傑 2011.3.24
編註：這份筆記，是把講義的某些部份變得完整一點，（就是廢話比較多的意思），請隨
時搭配講義的圖使用，感謝！XD
◎本次考試的重點：
（1）學習如何以電子能譜的方法，分析材料表面的性質。主要有兩種方式：X光電子能譜
（XPS，X-ray photoelectron spectroscopy）與歐傑電子能譜（AES，Auger electron
spectroscopy）。
（2）以次級離子質譜（SIMS，secondary-ion mass spectroscopy）為例，說明其在表面
分析上的應用。
一、表面分析簡介：
表面，就是存在於固體與液體、氣體、或真空之間的界面，通常是薄薄一層的厚度。常常
一個材料被作出來之後，我們關注的是它在表面上的物理、化學性質。這些性質可能會因
材料組成不均勻，而與材料內部的塊材部分（bulk material）有差異，所以如果分析方
法會同時測到表面與塊材的訊號時，塊材的訊號對表面分析來說，反而是種干擾。因此，
發展出針對於材料表面的研究方法是重要的。
＊取樣種類：
（1）單點取樣（fixed point）：針對單一區塊做組成分析。
（2）來回取樣（raster pattern）：二維掃描，可提供表面的分布情形。
（3）縱深量測（depth profiling）：在分析時會一邊製造出表面的凹陷，探討組成隨深
度變化的情形。
＊分析環境：
進行表面分析時，通常儀器內部的樣品腔會處在高真空環境下（ultrahigh vacuum）。這
麼做有幾個好處：
（1）可避免環境中的氣體吸附在材料表面上，影響分析的程序與結果。（在10-6 torr下
，將表面覆蓋上一層氣體分子僅需1秒，所以更需要高真空。）
（2）在以電子束做為分析源時，高真空可有效防止電子與其他粒子進行碰撞，而影響其
能量。
＊表面清潔：
要獲得正確的表面資訊的話，在分析之前對材料表面做點清潔，當然有其必要性。
（1）加熱脫附（baking）：將表面吸附的物質，以加熱方式脫附（desorption）。
（2）撞濺（sputtering）：以Ar+之類的離子，將表面附的髒東西撞飛（類似MS中FAB的
離子版本）。
（3）機械式刮除（mechanical scraping）：以鑽石刀在表面上刻劃。
＊分析概念：
在進行表面分析時，一般會將初級束（primary beam）打在材料上，而偵測由材料所反射
出的次級束（secondary beam）。初級束與次級束可能為光子、電子、離子、或中性原子
等，而不同的儀器，便是利用打入不同的初級束，及偵測不同的次級束，來達到表面分析
的目的。一道初級束對材料表面造成的擾動（perturbation），可能會具有多種次級束的
行為（response）；各種表面分析方式，只是選擇其中一種或數種response的特性，進行
表面性質的量測。
二、電子能譜（electron spectroscopy）：
電子能譜，是測量次級束中的電子訊號隨電子能量的變化。底下介紹兩種電子能譜的分析
方式－XPS與AES。
三、X光電子能譜（XPS，X-ray photoelectron spectroscopy）：
XPS，又稱為ESCA（electron spectroscopy for chemical analysis），是利用X光作為
初級束，在材料表面上因光電效應，將原子中的內層電子打出，而XPS儀器就是藉由量測
放出電子的動能，來分析表面的化學特性。
在做XPS時，通常會先對材料表面做一次大範圍的survey scan，以確定表面上有哪些元素
。之後如果要確定某個元素在表面上，是否存在於不同的化學環境時，即可將掃描範圍縮
小至該元素的內層電子束縛能範圍。
＊能譜的長相：
以電子計數（counting rate）對電子的束縛能（binding energy，Eb）作圖。束縛能，
是游離電子所需要的能量，是元素的本性之一，不會隨著分析時入射的X光能量而改變。
一顆電子的束縛能，可以從入射X光的能量與它飛出材料表面的動能之差算出。（能量守
恆）
在XPS能譜上，有兩個特點要注意：
（1）背景訊號，隨著橫坐標的束縛能值增加而快速提升。理由是，每個被X光打出來的電
子，都有機會在脫離材料之前，與其他粒子產生非彈性碰撞而損失動能。因此，被誤認為
具有較高束縛能的電子會越來越多。
（2）測XPS時，也會同時測得歐傑電子（Auger electron）的訊號。理由後述。
＊儀器設計－初級束源（source）：
帶電粒子做加速度運動時，便會產生輻射。如：同步輻射（synchrotron radiation）、X
光管（X-ray tube）等。
（1）X光管：是利用燈絲加熱產生的高能電子，撞擊至特定金屬靶材（metal target）上
，導致電子運動速度改變，進而放出X光。通常這種X光是連續波長分布的，但如果這些高
能電子可以將靶材的內層電子打掉，在內層產生「洞」。此時若靶材原子中的外層電子掉
回內層，就會放出強度極強的X光，稱為X-ray fluorescence。這種X-ray fluorescence
產生的特徵譜線，便被拿來做為X光管光源的放射波長。
（2）改變X光管中的金屬靶材種類，會產生不同X光波長的特徵譜線。
（3）透過其他金屬做為filter，可吸收掉部分靶材所放出的特徵譜線，而只留下單一放
射波長。
＊儀器設計－分析器（analyzer）＆訊號轉換器（tranducer）：
XPS的分析器，可以為磁場式或電場式。作的事情和MS的analyzer很像，都是利用帶電粒
子在電場或磁場中的運動模式，將不同動能的電子做解析。
而訊號轉換器，便是將電子訊號放大。XPS的訊號轉換器，可以用solid-state channel
electron multiplier，為玻璃管所構成，上面摻雜了鉛、釩等金屬。原理類似光電倍增
管。
＊分析上的應用：
由XPS的能譜，可以判知各組成元素的化學位移與氧化態。若元素的氧化態越高，電子的
束縛能就越大，而利用這些束縛能在圖譜上的位移，可以回推分子的化學結構。講義上頭
的四個例子為：
（1）C的1s電子XPS能譜。因為F的電負度很大，把C的電子拉的很緊，所以X光就不容易將
接了F的C 1s電子打掉，其束縛能也就比較高。
（2）確認合成分子接在金表面的比率。A圖為粉末狀樣品的S(2p) XPS，B圖則為合成分子
上鍵結於金表面的S(2p) XPS能譜。由程式運算，可以將胖胖的峰值做解析（
deconvolution），得到S(2p)的束縛能。B圖中，S(2p)的束縛能較A圖中來的小，此乃因
為S與Au鍵結時，S會把Au的電子拉住，導致氧化態下降，束縛能也因此下降。
（3）分析合成聚合物的化學組成。將合成出來的高分子，先做一次大範圍能量的survey
scan，確認該有的元素都有出現在高分子中，再進行小範圍、高解析度的XPS掃描，以確
認合成出來的高分子結構，與理論設計的結構相似。同種元素的不同化學位移，可以透過
curve fitting或deconvolution的方式來獲得。
（4）材料表面元素分布的均勻程度。因為X光的平均自由徑較長（註：平均自由徑為，物
質在兩次碰撞之間所走的距離。平均自由徑越小，代表碰撞的頻率會越高。），所以如果
垂直的將X光打入樣品，可能會拿到離表面太深的電子訊號，這是我們不想要的干擾。在
測量上，可以把樣品旋轉一個角度，使得入射角增加，這樣X光就只能打到淺層部分；而
電子也幾乎從淺層飛出。電子的平均自由徑較短，所以必須減小它在材料內產生非彈性碰
撞的機會，以避免背景訊號的干擾增加。（講義p.10）而藉由旋轉樣品角度，將從樣品不
同部分所取得的訊號做比較，如果比率不變，則代表表面組成均勻度較高（homogeneous
）；反之，若不同區塊的訊號比率，會隨著樣品旋轉角度而改變，則表面組成的均勻度較
低，也可以由這個比率隨角度上升或下降，來推測各種組成的深淺分布情形。
四、歐傑電子能譜（AES，Auger electron spectroscopy）：
首先，用一道初級束（可以為電子束、X光等高能量的初級束）將樣品中原子的內層電子
打飛；此時便會在原子內層產生一個「洞」。AES的現象是指，這個「洞」會被外層電子
「填進來」而放出能量（因為不同層電子的束縛能不同）；這個能量，如果可以使得另外
一顆外層電子掙脫束縛能而飛出去，那麼這個飛出去的電子就被稱做歐傑電子（Auger
electron）。AES，是以量測歐傑電子動能，來回推原子中電子能階的分佈。
＊能譜的長相：
（1）AES的訊號種類，通常以KLL、LMM等三個字母所組成。第一個字母代表「洞」在哪一
層；第二個字母代表哪一層的電子掉回「洞」；第三個字母代表電子掉回內層所產生的能
量，被哪一層的電子吸收。
（2）由於產生歐傑電子的機率不高（有競爭的機制，如：XRF），所以訊號強度不算強，
不能做為一個好的定量工具；又，電子初級束在打到樣品表面時，會產生反彈，導致偵測
器會測得這些反彈電子的背景訊號。在橫坐標的偵測電子能量逐漸提升，背景訊號也會上
升，就是因為測到反彈電子的數量增加。為了解決這種問題，於是在AES中的縱坐標，會
採取一次微分作圖法，將樣品訊號增強。
＊與XPS的比較：
（1）歐傑電子的動能，與入射初級束的能量無關。由於歐傑電子的能量，是單純由外層
電子掉回內層所提供；而XPS中的電子動能，是由入射的X光能量來決定。所以，在初級束
為X光的情況下，如
果要分辨圖譜訊號是來自於XPS電子或是歐傑電子，一個做法是將更換X光管中的金屬靶材
種類，已改變入射X光的波長。若這個訊號在圖譜上的位置不隨靶材種類而改變，則可以
確定這個訊號是來自於歐傑電子。
（2）由於電子－電子交互作用能力，較光子－電子交互作用能力強，所以AES比XPS更適
用於分析低原子序的原子。在高原子序的原子中，電子受到原子核的束縛較小，此時XPS
的X光就能雨電子做較好的交互作用。
（3）在不同的化學環境下，原子中的各層電子能階會受到影響而略有不同，在XPS中便可
分析出這些不同環境下的電子。然而，AES所量測的是不同層電子之間的能階差，所以這
些化學位移有可能在能量相減過程中抵銷掉一部分，使得AES對化學結構與氧化數的差異
，無法像XPS一樣分辨的那麼明顯。但也由於AES的這種性質，使得非分析樣品以外的基質
（matrix），對AES訊號的影響比較小。
（4）由於將電子聚焦，比將光聚焦來得容易許多，所以相較於XPS的X光，AES的初級束可
以確保打在比較小的樣品區塊，作小區塊的分析，而空間的解析度也就會比較高。
（5）由於歐傑電子訊號較XPS電子訊號小，所以比較難提供定量資訊。
＊與XRF（X-ray fluorescence，或縮寫作XFS）的比較：
在外層電子掉回內層的「洞」時，放出的能量會有兩種型式。一種就是被另一顆電子吸收
（AES），另一種有可能的情況就是以光的型式放出，而能量近於X光。這個過程被稱為
XRF。
兩者為競爭機制，而發生的相對速率，取決於原子的原子序大小。原子序越大的，XRF速
率較AES快。
＊儀器設計－初級束源：
AES的初級束源，是一個可打出高能量電子（3~30 keV）的電子槍（electron gun）。這
些高能電子，主要可以藉由兩種方式產生：
（1）加熱燈絲：如鎢絲可產生直徑50 μm的電子束；LaB6可產生直徑10 μm的電子束。
（2）場發射電子源（field-emission）：藉由高電場而產生的電子穿隧效應（
tunneling effect），將高能電子束射出。由於這種方式不需要熱能來促使電子離開固體
表面，所以減少了其分散的寬度，期電子束直徑可小至10 nm，為加熱方式的0.001倍。
＊儀器設計－分析器：
AES仍然是分析電子次級束的動能，所以需要有裝置將不同動能的電子運動分開。兩種方
式如下：
（1）CMA（cylindrical mirror analyzer）：在初級束源的方向上，擺上兩個同心圓柱
，中間施加不同大小的電場。在電子初級束打到樣品產生歐傑電子時，這些歐傑電子會飛
進CMA裡，而藉由選擇CMA中不同的電場，可以選擇特定動能的電子進行偵測。由於電子槍
與CMA擺放的方向是一致的，所以偵測到的歐傑電子比率會提高，訊號較強。
（2）CHA（concentric hemispherical analyzer）：由兩個半圓形的鋼板所組成，設置
在與電子槍不共軸（off-axis）的位置上，在透過在兩鋼板間施加不同電場，達到不同動
能電子分離的效果。CHA附有電子聚焦功能，所以它對於同種動能電子的聚焦能力較CMA好
。可用於XPS、SAM（scanning Auger microscopy）做二維影像偵測。
＊分析上的應用；
（1）定性分析：可做表面元素的定性組成分析。通常會在分析器旁加一個離子槍（ion
gun），做表面清潔與深度分析的工作。
（2）表面的縱深量測：藉旋轉樣品、氬氣離子撞濺、或是機械式刮除表面，以獲得表面
組成隨深度
的變化情形。以Cu-Ni合金的陰極氧化保護為例，如果要分析合金表面是否成功被保護，
可一邊以亞氣離子撞濺表面，一邊偵測Cu-Ni的歐傑電子訊號比率隨時間的變化。如果合
金表面成功地被氧化層所保護，那麼一開始的幾分鐘，就不會產生Cu-Ni的歐傑電子；而
隨著撞濺時間增加，表面的氧化曾被剝除後，暴露出來的合金部份越來越多，測得的歐傑
電子訊號就會越接近原本的塊材訊號。
（3）線性掃描：沿著一條直線針對特定元素作AES，可得到表面上的元素組成隨距離的變
化情形。
（4）二維平面影像：由於電子初級束可以聚焦至很小的直徑範圍（~nm），所以可拿來對
平面作二維來回掃描（raster pattern），可得到表面的粗略影像，此方式稱作掃描式歐
傑顯微術（SAM，scanning Auger microscopy）。空間解析度約為100 nm或更小。
五、次級離子質譜（SIMS，secondary-ion mass spectroscopy）
與質譜離子化方法中的FAB作用原理相似，皆是以高能初級束將表面原子撞離材料，而分
析撞出來的離子。只是SIMS中用來撞濺的初級束，由FAB所使用的高能Ar、Xe原子，改成
Ar+、Cs+、Ga+、N2+、O2+等離子。這些離子打進樣品後，會被樣品中原子的電子所中和
。而撞濺出來的次級離子，則使用質譜儀來分析。
＊離子源的選擇：
（1）對於電負度大的分析物來說，使用Cs+作為離子源的好處在於，在離子源撞進樣品而
變回Cs原子時，很容易再把自己的電子丟給樣品（因為Cs的電負度很小），藉以增加電子
在樣品中傳遞的速率，提高分析效率。反之，對於電負度小的分析物來說，使用O2+離子
則可很快的搶走分析物中的電子（因為O的電負度很大）。
（2）最近的新技術，是使用較大顆的籠簇離子（cluster ions）做為初級束，如：SF5+
、Au3+、Bi3+、C60+等。由於原先使用的離子太小顆，打到樣品時的深度會比較深，對於
表層的資訊取得比較有限，所以才發展出籠簇離子的離子源。籠簇離子中個別原子的的動
能較原子化離子小，只會打穿一點點的表面深度，因此具有比較高的表面游離效率。
＊產生機制－離子碰撞級聯（collision cascade）：
（1）初級離子束撞濺深度可達約 10 nm深。
（2）Sigmund的碰撞級聯理論：入射的粒子會在距表面約3 nm深處，啟動一連串的碰撞級
聯，而能量便在這些碰撞中流轉，最後樣品原子在離開表面之前才會因游離或單一分子解
離而帶上電荷。
（3）在次級離子產生之後，可藉由雷射，再增加其離子化的比率。
＊種類：
（1）靜態 SIMS（static SIMS）：使用低通量的離子初級束，來分析表面一、兩層的元
素組成。
（2）動態 SIMS（dynamic SIMS）：此用較高能量的離子束，用來量測元素組成隨深度變
化的情形。
（3）影像 SIMS（imaging SIMS）：用來分析表面上的影像分布。
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