關於 euv介紹 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 摩爾定律的華麗謝幕：EUV微影機 - DigiTimes

微影機顧名思義就是在矽基板上，能夠雕刻出多細的線寬，而這多細的線寬取決於微影機中所使用光源的波長，以及光學系統的設計。光源的波長越短，所雕出來的 ...

#12. 全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光 - 科技魅癮

極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少， ...

#13. 極紫外光微影之高階材料檢測分析 - 材料世界網

本文針對極紫外光微影(EUV)技術所需之光罩製作、極紫外光光阻研發評估過程中所需之檢測技術的發展和前景做一相關介紹。通過EUV干涉微影技術，可以產生 ...

#14. 【2019/08/29】極紫外光(EUV)與先進光學微影系統的原理與 ...

訂閱我的Youtube頻道：https://goo.gl/zX7p6N按讚粉絲專頁，掌握最新趨勢：https://goo.gl/8zfgi5EUV與先進光學微影系統的原理與發展趨勢， ...

#15. 極紫外光微影光罩檢測技術 - 機械工業網

摘要：此篇文章對於極紫外光(EUV)微影技術所須之具多層反射膜結構之光罩，其製造過程中需要之檢測技術之發展現況做一簡介，並提出一些展望。EUV光罩之 ...

#16. 孔徑數自0.33 到0.7，一手掌握ASML EUV 發展布局| 科技新報

根據《semiwiki》的報導指出，在2022 SPIE 高階微影曝光大會上，極紫外光微影設備（EUV）大廠艾司摩爾（ASML）進一步介紹...

#17. 「EUV （极紫外光刻）」是一项什么样的技术？ - 知乎

谁掌握了光刻机制造技术，谁就可以在大国博弈中利于不败之地。 考虑到光刻机的复杂程度，在对其介绍时，本人将略过佶屈聱牙的机理部分，力图介绍些大家可以理解并普遍接受 ...

#18. ASML首席技術長認為當前曝光技術可能已經快要走到盡頭 - T客邦

據Martin van den Brink介紹，開發High-NA EUV技術的最大挑戰是為EUV光學器件建構計量工具，配備的反射鏡尺寸為此前產品的兩倍，同時需要將其平整度 ...

#19. 極端紫外光源EUV Light Source - 台灣阜拓科技

首頁 · 產品介紹. Products · 光源與雷射Light Source & Laser · 多波長LED光源LED Light Source · 極端紫外光源EUV Light Source ...

#20. 半導體用光阻劑之發展概況

... 研發因先進製程的持續演進而不斷的進化中，以下內容將詳細介紹之。 ... JSR也投入開發超紫外線(EUV)光阻劑的行列，並朝向支援3nm與更先進製程的光 ...

#21. EUV光刻機最新路線圖 - Yahoo奇摩新聞

下圖說明了邏輯和DRAM（條）的EUV層數和每年使用EUV曝光的晶圓（面積）。 據ASML公司的Mike Lercel介紹，以典型的5nm工藝為例，2021 年的邏輯值是10 層 ...

#22. 產品介紹 - 鼎京科技有限公司

EUV Pod OLUS with N2 Purge · 產品尺寸: L-135 W-57 H-190 (不含信號燈) cm · 產品重量: 90 KG · 標準規格: MFC流量控制，E84通訊，11.7 吋全彩觸控式電腦，四色信號燈 · 識別 ...

#23. 三建技術課程- 【日本專家】EUV微影・光阻劑的最新技術動向 ...

同時將詳細說明在EUV光阻中備受關注的金屬光阻之內容。 最後，介紹在最先進的量產製程中所使用的光阻微影成像技術(photoresist lithography)，並總結提出對今後的 ...

#24. ASML - 【EUV與極紫外光機的珍貴】 EUV技術真的非常得來不易

【EUV與極紫外光機的珍貴】 EUV技術真的非常得來不易，ASML的EUV機台經過將近20年的研發、投入了60億歐元， ... 看炎亞綸介紹自己：https://lihi1.com/CTgop.

#25. DRAM，進入EUV時代！

本文來自格隆匯專欄：半導體行業觀察. 昨日，韓國存儲廠商SK海力士宣佈，公司第一代使用EUV光刻機生產的DRAM正式量產。 據介紹，公司旗下第四代10 納米級（1a） ...

#26. 推進摩爾定律極限！ - 同步光源在先進半導體技術應用

技術名稱, 推進摩爾定律極限！ - 同步光源在先進半導體技術應用. 計畫單位, 國家同步輻射研究中心. 計畫主持人, -. 技術簡介, EUV微影是未來邁向1奈米元件的主流製程 ...

#27. 家碩科技股份有限公司- Gudeng

公司介紹. 家登自動化股份有限公司成立於2016年，是由原家登精密設備部門分割轉出,獨立運營之子 ... 產品介紹. 光罩儲存Stocker (RSP 150/ EUV POD/ RSP 200/ 光罩盒).

#28. 熱敏CTP版EUV - 太普高精密影像股份有限公司

項目描述型號EUV 類型正型厚度(mm) 0.15 & 0.30 mm 顏色藍色安全燈光2小時適用波長(nm) 800 ~ 850 能量(mj/cm2) 120 ...

#29. [10A062]EUV 投影鏡頭的光學設計

本課程將利用光學模擬方式介紹台積電技術的核心—極短紫外光的光刻機光路設計。 課程特色：. 半導體微影製程是半導體產業的核心技術，其基本組成為：曝光光源、照明 ...

#30. NML 國家度量衡標準實驗室

... 電子工程研究所金雅琴教授，介紹最新之技術發展與產業應用; 國家度量衡標準實驗室莊宜蓁研究員則由計量標準的角度，介紹EUV波段量測技術之進展。

#31. 極紫外光刻市場- 增長、趨勢、COVID-19 的影響和預測(2023 ...

第9章市場將來性. 簡介目錄. Product Code: 70357. The Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market is expected to register ...

#32. 產業價值鏈資訊平台> 產品介紹

家登產品介紹 ; 光罩傳載解決方案. 使光罩在生產使用、傳送過程中，對於靜電、微污染、微粒（Particle）的產生給予最佳的保護：. 極紫外光光罩傳送盒(EUV POD). 極紫外 ...

#33. EUV(13.5nm)深紫外線光源XUUS - 半導體設備

介紹. • XUUS是目前市場上最穩定和强大的桌面型HHG發生器。産生的EUV光源可用于半導體材料、相干衍射成像（CDI）和原子分子學光譜等研究方向。

#34. EUV雙色鏡- X射線光學

提供將EUV光與可見光和近紅外光分離的分色鏡。 ... このページの本文へ移動. NTT-AT尖端技術商品介紹網站Leading-EdgeKey Technology Product Information.

#35. ASML 新一代EUV 設備飆天價估計一台約118 億元 - INSIDE

台積電、英特爾、三星等半導體大廠先進製程大戰如火如荼開打，接連重砸資本支出在各項先進製程設備，對極紫外光(EUV) 設備需求大增。#趨勢,半導體,EUV ...

#36. 人類史上最精密的設備！全世界半導體產業都靠它？｜志祺七七

有觀眾可能看過去年9月我們製作的一集影片，介紹了「半導體產業都在幹嘛」，不過 ... 一直到2017年，荷蘭公司ASML才宣布能夠量產「商用EUV」的設備。

#37. 台積電有危險？美企竟做出0.7奈米晶片 - 全一電子

艾司摩爾（ASML）還在為製造2奈米、1奈米必用極紫外光（EUV）設備努力之際， ... 據美國Zyvex公司官網介紹，新推出ZyvexLitho1微影系統，基於STM掃描 ...

#38. PMC助攻鼎佳通過SEMI S2驗證 - 台灣氫能與燃料電池夥伴聯盟

於2021年5月通過審查驗證，並獲頒證書，預計協助台灣晶圓製造產業降低成本，並符合綠色循環經濟之要求。 PMC總經理賴永祥表示，半導體製程在7奈米以下，進入了極紫外光(EUV) ...

#39. EUV應用於TFT-LCD濕蝕刻製程的金屬殘留缺陷改善之研究

[14] 莊達人，「VLSI 製造技術」，高立圖書出版股份有限公司，2004年。 [15] 龍柏華，「濕蝕刻製程介紹暨機台原理簡介」，光連雙月刊，第48期，第37- ...

#40. ASML南科設EUV全球技術培訓中心在台研發人力3年內擴增近8成

荷蘭半導體設備製造商ASML 在台南科學園區設立「EUV (極紫外光) 全球技術培訓中心」，總投資金額為1350 萬歐元(約新台幣4.74 億元)，並將在台灣擴展研發團隊，3 年內將 ...

#41. 極紫外線(EUV) 球面反射鏡 - Edmund Optics

TECHSPEC Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors are used in EUV beam focusing and EUV high harmonic generation applications.

#42. Gigaphoton將在SPIE Advanced Lithography + Patterning ...

Gigaphoton將介紹有助於提高產能的尖端技術，以及採用DUV光源技術永續性解決方案。此外，Gigaphoton還將介紹EUV光源的研發進展。

#43. 台積電：2024年將擁有ASML高數值孔徑EUV工具 - 經濟日報

路透社報導，米玉傑在矽谷的台積電技術論壇上說，台積電將在2024年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）光刻機，來因應客戶推動創新的需求。

#44. (ASML)台灣艾司摩爾科技股份有限公司 - 104人力銀行

【公司簡介】資本額：18億8000萬元、員工數：4500人。總部位於荷蘭的ASML (台灣艾司摩爾) 是全球最大晶片微影設備市場的翹楚，為半導體製造商提供微影設.

#45. [徵才] ASML台南菁英面談會- 裝機工程師、系統升級工程師

EUV System Install Engineer (Tainan) ... EUV Upgrade Engineer (Tainan) ... 管理和執行複雜的系統升級，使團隊能夠為客戶展現ASML EUV產品的潛力。

#46. Speech】- Be part of progress. Making Chips faster, smaller ...

也介紹了艾司摩爾的EUV（極紫外光曝光機），利用電子躍遷的概念並採用CO2雷射電漿技術來產生波長為13.5奈米的極紫外光，目前此技術也獨步領先全球。最後 ...

#47. 【歷史上的今天】搭上EUV熱潮的家登EUV光罩盒很了不起嗎？

光罩產業簡介. 光罩是半導體製程中不可或缺的一項工具，由於現今的IC晶片已進入的奈米層級，製程只 ...

#48. MITSUI PELLICLE™ 光罩護膜 - 台灣三井化學股份有限公司

特性. *PELLICLE膜上的異物不會轉寫到晶圓上 ; 製品群: KrF 用光罩護膜 ArF 用光罩護膜 ; 可對應主要曝光機製造商: Nikon Canon ASML ; 完整的技術支持系統. 處理方法介紹品質 ...

#49. 家登精密工業股份有限公司 - MoneyDJ理財網

此外，公司也是全球半導體曝光機龍頭廠艾司摩爾(ASML)的EUV光罩盒供應商，以及曝光機零組件夥伴。 2020年跨足航太領域，將精密加工核心技術延伸至不同 ...

#50. 歐盟領先開發7奈米晶片微影技術製程，延續摩爾定律

SENATE計畫利用EUV微影設備，成功研發並量產第一批7奈米晶片。7奈米為繼10奈米後最先進的晶片製程技術。透過更小電晶體尺寸來製造更快、更節能的處理器，便能衍生出 ...

#51. DUV和EUV光刻机的区别在哪？ - 中国科学院微电子研究所

EUV 是未来光刻技术和先进制程的核心。为了追求芯片更快的处理速度和更优的能效，需要缩短晶体管内部导电沟道的长度，而光刻设备的分辨 ...

#52. FPD 零件耗材 - 皇軒科技有限公司

FPD 零件耗材-商品介紹：CVD Part Overhaul & Brand New、Dry Etcher Parts Overhaul & Brand New 、EUV Lamps.

#53. 半導體材料(前段) - 台灣東應化股份有限公司

HOME; 產品介紹; 半導體材料(前段). g-Line Resist; i-Line Resist; KrF Resist; ArF Resist; EUV Resist. 半導體製造. g-Line Resist. TOK g線光阻.

#54. 桌上型同調極紫外光奈米成像 - 博碩士論文網

Coherent diffraction imaging has been considered the candidate for actinic inspection of extreme ultraviolet (EUV) masks in the semiconductor industry. However, ...

#55. 綜合解決方案 - Edwards Vacuum

極紫外光刻(簡稱為EUVL 或EUV) 的創新工藝是下一代光刻技術，領先的半導體芯片製造商計劃將其用於製造最先進的半導體元件。這項技術具有歷史意義，因為它使摩爾定律 ...

#56. 紫外線清洗機 - 志聖工業

發光波長. DUV：185nm及254nm. EUV：172nm 2.搬送型式：RobotorConveyor 3.清洗效果：水接觸角≦5∘ 4.UV強度均勻度：≧90% 5.潔淨度：Class10.

#57. 7奈米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

藉由目前試產中的7奈米強效版(N7+)使用極紫外光(EUV)微影技術所獲得的新能力，台積公司N6技術的邏輯密度較N7技術增加18%；同時，N6技術的設計法則與台積公司通過考驗 ...

#58. 斷鏈為什麼是台廠「百年難得一見的機會」？EUV光罩盒霸主 ...

家登因為台灣先進製程大廠及美系IDM大廠的EUV Pods主力供應商；同時美中貿易下，中國加速擴建廠房，家登12吋FOUP在中國市場業務大幅成長，獲前段製程採用 ...

#59. 三建產業資訊- 【日本專家】診斷及控制EUV電漿用的測量技術

本課程首先概述電漿產生EUV光的原理，然後說明改善光源性能的關鍵點，在於測量及控制電漿的(電子)密度和(電子)溫度。接著介紹這些測量方法(雷射散射法)，並出示測量結果。

#60. 邁入3奈米，EUV與相關周邊設備也須跟上晶片製造商腳步才是 ...

台積電與三星規劃2022年進入3奈米(nm)量產階段，而半導體廠商為了進入3nm以及更先進製程，都積極搶奪極紫外光（EUV）微影機設備，但是一台造價高達3億 ...

#61. 極紫外光刻:簡介,概述,背景,展望 - 中文百科全書

極紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為採用波長為13.4nm 的紫外線。

#62. 小辭典》什麼是DUV設備？ - 自由財經

... 光源（Deep Ultraviolet；DUV），波長可從365奈米縮減到193奈米；最新技術的極紫外光源（Extreme Ultraviolet；EUV），更將波長縮減至13.5奈米。

#63. 日本EUV 移機及支架改造工事 - 佑傑電子科技有限公司

原有設備架設EUV系統，提升產品良率及效率。目前支架及相關電路變更工事。 EUV原為韓國設備所搭配，目前客戶將此EUV移至日本洗淨設備上，需進行支架及電系之強化作業。

#64. EUV黃光微影技術介紹 - 銘乾的分享空間

EUV 黃光微影技術介紹 · 什麼是黃光微影技術Litography · EUV-波長13.5nm的極紫外線光 · 什麼是光罩傳送盒RSP(Reticle SMIF Pod)? · EUV技術的未來? · 作者 ...

#65. 過濾器MS9-LF-G-EUV | Festo TW

您是否正在尋找有關過濾器MS9-LF-G-EUV 的更多資訊？立即輕鬆線上訂購Festo 產品！

#66. 技術互補DSA加EUV實現精細間距微影 - EDN Taiwan

雖然兩者有時被看作是競爭對手，但將其視為相得益彰的互補型技術，則更加合情合理。本文介紹了結合使用EUV和DSA技術為微影技術帶來的益處，以及此前 ...

#67. EUV 光刻三维掩模成像研究进展

刻三维掩模成像领域的研究，介绍了EUV 光刻三维掩模成像的基本原理，总结了典型的三维掩模 ... Abstract Extreme ultraviolet (EUV) lithography is the most advanced ...

#68. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩 ...

光罩介紹. 光罩製程. 半導體用光罩. 技術藍圖. 技術發表 ... TTF, EUV Mask Technology. TTF, Toppan's Global Strategy of Photomask.

#69. IonGun & Ionizer - 樂華科技股份有限公司

... 濾網去除供應氣體裡的塵; 不會過充離子; 無發生臭氧; EUV隔離板預防EUV洩漏; 專注輻射區域/ 不需管理專人; 不會發生高周波電磁噪音; 只需要一年一次更換EUV管 ...

#70. 極紫外光刻_百度百科

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。 ... 快速導航. 基本介紹; 背景介紹; 展望 ...

#71. 台積電法說前夕三星宣布：正式採EUV「商業量產」7奈米 - 鉅亨

... 以及電子設計自動化基礎設施，同時三星詳細介紹其封裝能力。 ... 三星晶圓代工行銷總監Bob Stear 表示，目前的EUV 光刻機平均日常功率為280W，從 ...

#72. NCU Institutional Repository

本論文首先介紹穩態輻射電漿光譜模型的學理基礎與架構，此物理模型以哈特 ... 做為將來實驗之參考。;The broadband extreme ultraviolet (EUV) light ...

#73. 琳得科先進科技股份有限公司Lintec Advanced Technologies ...

尤其在半導體晶圓電子迴路面形成的工程中，作為新型防塵罩使用的EUV(極紫外線)曝光裝置之保護膜的開發、推廣上，琳得科將傾注全力，未來也會以獨立研發及全方位半導體 ...

#74. 奈米世代微影技術之原理及應用 - CTIMES

然而，F2技術使用的設備單價在8.5億台幣，而EUV技術使用的設備價格更高達17億 ... 最後則針對電子束投射微影術之演進與設備系統進行介紹，也對於此技術使用的光罩之 ...

#75. EUV-induced hydrogen plasma and particle release ... - X-MOL

Extreme UV (EUV) lithography is the most advanced lithography ... 本文将详细介绍脉冲EUV 诱导等离子体的能量和通量，以及它与材料和粒子的相互 ...

#76. 演講側記〉「半導體發展的故事」 - 中研院訊

首先，陳老師為我們介紹半導體及積體電路的發展。 ... 如今，在EUV雷射逐漸成熟的情勢下，製程有望持續進步，為臺積電帶來更大的效益。

#77. 摩爾定律的下一步：半導體製造技術的變革新趨勢

EUV 微影技術的實用化，需整合研發光源、光學系統、光罩、光阻、曝光裝置等各項技術，然而製程微縮除了對製程穩定度帶來壓力外，在成本控管上亦是相當嚴肅 ...

#78. 全球晶片產業都仰賴它——半導體設備大廠ASML虎年禮盒

事實上，我們的生活已與晶片密不可分，而ASML這次向大家介紹先進晶片生產必備的「EUV極紫外光」和「DUV深紫外光」微影設備，解析原來習以為常的電子 ...

#79. UV/O3清洗改質燈 - 極光照明科技網

產品介紹 > UV/O3清洗改質燈 ... UV-int172:EUV 130-250nm Max:172nm 0-999,999mj/cm2. UV-int185:VUV 160-300nm Max:185nm 254nm 0-999,999mj/cm2.

#80. 應用材料公司最新電子束量測系統提升高數值孔徑極紫外光微影 ...

傳統CD-SEM無法投射極窄的光束來產生高解析度影像，並以更低的衝擊能量儘量減少與高精密High-NA光阻的相互作用。 VeritySEM 10 CD-SEM量測系統簡介. 應用 ...

#81. 三星韓國華城市半導體廠已開始力產6nm 與7nm EUV 晶片

雖然三星在介紹華城市V1 產線時主要強調用於行動晶片，不過先前有傳聞由於NVIDIA 一方面有意導入7nm EUV ，一方面也因為台積電滿載，三星有可能 ...

#82. EUV Underlayer Materials - Brewer Science

EUV Underlayer Platforms Designed for Wide Spread Resist Compatibility. Brewer Science began working on extreme ultraviolet lithography (EUV) materials 15 ...

#83. 跨學科技術將成像元件提升到更高層次的半導體科技

這裡將介紹一些由此多元技術整合之後的計畫成果實例。 ... EUV）波長；單晶圓實驗室（lab-on-chip）則需要微小化的顯微鏡，以快速地分辨細胞。

#84. 情報ASML首席技術長認為當前曝光技術可能已經快要走到盡頭

據Martin van den Brink介紹，開發High-NA EUV技術的最大挑戰是為EUV光學器件建構計量工具，配備的反射鏡尺寸為此前產品的兩倍，同時需要將其平整度 ...

#85. 跪了！這家竟做出「0.7奈米」晶片台積電有危險？ - 上市櫃

艾司摩爾（ASML）還在為製造2奈米、1奈米必用極紫外光（EUV）設備努力之際， ... 據美國Zyvex公司官網介紹，新推出ZyvexLitho1微影系統，基於STM掃描 ...

#86. 卡位EUV供應鏈– EUV pellicle專利佈局分析 - 世博科技顧問

2019年5月，ASML與三井化學簽署授權合約，將ASML的EUV光罩護膜(EUV pellicle)技術授權給三井生產。

#87. 光罩交換機 - 聖凰科技股份有限公司

EUV Pellicle 檢測模組 ... EUV Pellicle 傳送載具. × ... 聯絡我們. 03-5774799 300196新竹市東區埔頂里慈雲路118號11樓之1. 關於我們; 產品介紹.

#88. 【litho-man】EUV光源介紹_光刻人的世界- 微文庫 - 古詩詞庫

EUV 光源介紹作者：馬玲郵箱：[email protected]高能光源是實現大規模量產並降低成本的前提.

#89. 浸潤式微影與EUV技術| IC之音竹科廣播FM97.5

單集介紹. 您在半導體產業新聞中，常聽到的20奈米、16奈米這些名詞，指的都是晶片上電路圖的「線寬」。一百奈米大約只有頭髮直徑的六百分之一，可見 ...

#90. 台積電先進製程的未來藏在一座台南的氫氣廠

「這些氫氣生產設備將滿足極紫外光微影技術（EUV）應用中，對超高純度氫氣的新興需求，並利用更環保的氫氣製程，支援台灣主要半導體產業客戶對環境與 ...

#91. 5 分鐘學美股》艾斯摩爾（ASML）是什麼？ASML股票怎麼買？

本文介紹艾司摩爾的經營狀況與前景，還會告訴你艾司摩爾的目標價與股價分析。 ... 艾司摩爾（ASML） 所生產的EUV 光刻機，需要動用大量的各國零組件， ...

#92. 這家日企深耕半導體感光材料 - 日經中文網

投資者熱切關注著支持最尖端半導體微細化技術「EUV（極紫外光刻）」的感光材料。東洋合成這家銷售額約為250億日元的日本中堅企業擁有壓倒性的競爭力， ...

#93. 包括该反射镜或该基底的用于微光刻的投射物镜 - Google Patents

如介绍中提及的，该层导致低杂散光损失，并且可在涂层工艺期间依靠例如辅助离子轰击的方法制造。 在一实施例中，用于EUV波长范围的反射镜包括基底和层布置，其中层布置 ...

#94. 什麼是EUV光刻機？為什麼大家都在追求它？ - WONGCW 網誌

近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 ... 這批文章中我們已經介紹過芯片是怎麼造出來的了，紫外線曝光是其中 ...

#95. 崇翌科技股份有限公司、HORIBA STEC質量流量控制器(MFC ...

主要代理產品為: HORIBA STEC質量流量控制器(MFC)、HORIBA濃度計(Concentration Monitor)、ASAHI SUNAC超高壓微粒子清洗系統(HPMJ)、準分子燈(EUV)及低壓水銀燈(DUV)， ...

#96. 【euv】職缺- 2023年5月熱門工作機會- 1111人力銀行

幸福企業徵人【euv工作】資深OPC工程師、工程師-台南等熱門工作急徵。1111人力銀行網羅眾多知名企業職缺，求職者找工作可依照想要的工作地區、職務、產業， ...

#97. 半導體巨頭押注的EUV 光刻，真能拯救摩爾定律嗎？（下）

在上篇，雷鋒網主要介紹了光刻製造技術的發展歷程，在接下來的文章里，雷鋒網將為大家繼續介紹EUV 技術拯救摩爾定律的探索。

#98. AEEA 天文教育資訊網主題介紹: 紫外光天文史

太陽光譜線包含UVA 、UVB、UVC 三個電磁波段， 但是99% 的紫外光被地球的臭氧層所吸收，僅有少數的UVA 可到達地面。 EUV 來源是物質間的交互作用，波長 ...

#99. 全球首款7nm EUV行動處理器三星發表Exynos 9825

三星Exynos 9825正式發表。 官方介紹，Exynos 9825是業界首款採用7nm EUV製程的行動處理器，號稱可將電晶體性能提高20%-30%，同時降低功耗達30%-50%。